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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務!
掩膜板是光刻圖形的基準和藍本,掩膜板上:的任何缺陷都會對終圖形精度產(chǎn)生嚴重的影響。所以掩膜板必須保持“完關”。
使用掩膜板存在許多損傷來源:掩膜板掉鉻:表面擦傷,需要輕拿輕放:靜電放電(ESD),在掩膜板夾子.上需要連一根導線到金屬桌面,將產(chǎn)生的靜電導出。另外,不能用手觸摸掩膜板:灰塵顆粒,在掩膜板盒打開的情況下,不準進出掩膜板室(Mask Room),在存取掩膜板時室內(nèi)保持2人。
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通過金屬化過程,在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在曝光(一般是紫外線)后可以被特定溶液(顯影液)溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上,光刻板,可以對光刻膠進行選擇性照射(曝光)。然后使用前面提到的顯影液,溶解掉被照射的區(qū)域,這樣,光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上。通常還將通過烘干措施,改善剩余部分光刻膠的一些性質(zhì)。
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光刻(英語:photolithography)是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟,該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu),然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓,還可以是其他金屬層、介質(zhì)層,例如玻璃、SOS中的藍寶石。
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