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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外,還廣泛的應(yīng)用與像LCD,PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種,鉻版(chrome)、干版,凸版、液體凸版。主要分兩個(gè)組成部分,基板和不透光材料?;逋ǔJ歉呒兌?,低反射率,玻璃板,低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小,雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。
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光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)和工作原理:
光刻機(jī)的光源有:激光,紫外光、深紫外光、極紫外光?,F(xiàn)在先進(jìn)技術(shù)是極紫外光。
下圖是以激光為光源的光刻機(jī)簡易工作原理圖:
在制造芯片時(shí),首先在晶圓(硅晶片)表面涂光感膠,再用光線透過掩模版(相當(dāng)于芯片電路圖紙的底片)照射硅片表面,被光線照射到的光感膠會(huì)發(fā)生反應(yīng)。此后用特定溶劑洗去被照射或者未被照射的膠,電路圖就印到硅片上。
此過程相當(dāng)于木匠施工用墨斗放樣、劃線。
硅片上有了電路圖的圖樣后,就輪到刻蝕機(jī)登場,刻蝕機(jī)相當(dāng)于木匠的鋸子、斧頭、鑿子、刨子??涛g機(jī)按圖施工,在硅片表面雕刻出晶體管和電路。
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濺鍍法(Sputtering):(1)上平行板:裝載濺鍍金屬的靶材;下平行板:作為濺鍍對象的玻璃基板。(2)將氣(Ar 2 )通入反應(yīng)艙中形成等離子體;離子(Ar )在電場中被加速后沖撞靶材;受沖擊的靶材原子會(huì)沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。
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