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公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
玻璃反光解決方案
使用背光源,在玻璃下方用光源吧吧整個(gè)玻璃照亮可使玻璃不會反光在條件不允許使用背光源情況下使用 上光源 吧玻璃全部照亮,不要產(chǎn)生點(diǎn)光源得效果在機(jī)器視覺標(biāo)定時(shí)使用藍(lán)光效果會更好得標(biāo)定如果以上解決不了得話,可選用陶瓷標(biāo)定板,表面漫反射效果 不會反光,
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在刻畫時(shí),采用步進(jìn)機(jī)刻畫(stepper),其中有電子束和激光之分,激光束直接在涂有鉻層的4-9“ 玻璃板上刻畫,邊緣起點(diǎn)5mm,與電子束相比,其弧形更逼真,線寬與間距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask,也有稱為中間掩膜,reticle作為單位譯為光柵),用步進(jìn)機(jī)重復(fù)將比例縮小到master maks上,應(yīng)用到實(shí)際曝光中的為工作掩膜(working mask),工作掩膜由master mask復(fù)i制過來。
公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,光刻板,定制版圖,蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
石英巖是一種主要由石英組成的變質(zhì)巖(石英含量大于85%),是石英砂巖及硅質(zhì)巖經(jīng)變質(zhì)作用形成。一般是由石英砂巖或其他硅質(zhì)巖石經(jīng)過區(qū)域變質(zhì)作用,重結(jié)晶而形成的。也可能是在巖漿附近的硅質(zhì)巖石經(jīng)過熱接觸變質(zhì)作用而形成石英巖。
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