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光刻機的結(jié)構(gòu)和工作原理:
光刻機的光源有:激光,紫外光、深紫外光、極紫外光?,F(xiàn)在先進技術(shù)是極紫外光。
下圖是以激光為光源的光刻機簡易工作原理圖:
在制造芯片時,首先在晶圓(硅晶片)表面涂光感膠,再用光線透過掩模版(相當于芯片電路圖紙的底片)照射硅片表面,被光線照射到的光感膠會發(fā)生反應(yīng)。此后用特定溶劑洗去被照射或者未被照射的膠,電路圖就印到硅片上。
此過程相當于木匠施工用墨斗放樣、劃線。
硅片上有了電路圖的圖樣后,就輪到刻蝕機登場,刻蝕機相當于木匠的鋸子、斧頭、鑿子、刨子??涛g機按圖施工,在硅片表面雕刻出晶體管和電路。
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目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低,且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘,所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進行生產(chǎn)。
公司產(chǎn)品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,玻璃板,以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)!
通過金屬化過程,在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在曝光(一般是紫外線)后可以被特定溶液(顯影液)溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上,可以對光刻膠進行選擇性照射(曝光)。然后使用前面提到的顯影液,溶解掉被照射的區(qū)域,這樣,光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上。通常還將通過烘干措施,改善剩余部分光刻膠的一些性質(zhì)。
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