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六氟化硫的使用可以增加設備運行的安全性、縮小設備體積、延長設備壽命。近幾年,國家大力發(fā)展基礎電力行業(yè),給六氟化硫廠家?guī)砹撕艽蟮氖袌鰴C遇。
高純六氟化硫(純度在99.99%以上),六氟化硫制備,國內需求非常旺盛,而且附加值較高。
高純六氟化硫主要用于半導體工業(yè)中作清洗氣體。
六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一,近年來,南陽六氟化硫,各公司以廉價的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術正被廣泛研究。
該技術在大幅降低液晶產品加工中占相當比例的CVD氣體成本的同時,還顯示出了極i佳的環(huán)保前景,近年來用量有明顯的提高。
據權i威機構預測,2010年我國將成為僅次于美國的大集成電路市場,總需求量約為500億美元。目前國內使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產線約有50條左右預計。2016年將達到700噸左右,
國內使用六氟化硫作為蝕刻氣的生產線有近50條,在未來的五年預計將有20條至30條新線建成。每年約消耗高純六氟化硫為600噸左右。而國內高純六氟化硫產品遠遠不能滿足市場需求,半導體廠家所用高純產品大部分依賴進口,六氟化硫哪家好,這給高純六氟化企業(yè)提供更多的發(fā)展機遇。
1、性狀:無色無味氣體。 2、熔點(℃):-51
3、沸點(℃):-64(升華) 4、相對密度(水=1):1.67(-100℃)
5、相對蒸氣密度(空氣=1):6.602 6、飽和蒸氣壓(kPa):2450(25℃)
7、臨界溫度(℃):45.6 8、臨界壓力(MPa):3.76
9、辛醇/水分配系數:1.68 10、溶解性:微溶于水,溶于乙醇、yi 醚
11、汽化熱(Kg/mol):23.59(升華熱) 12、熔化熱(Kg/mol):5.82
13、黏度(mPa·s,氣體):0.01576 14、黏度(mPa·s,液體):0.277
15、折射率(氣體):1.000783
SF6氣體的分子具有很好的電負性,能夠捕i捉自由電子形成負離子,因此SF6氣體的滅弧性能是空氣的100倍,大型電力設備中大多使用SF6斷路器而不是空氣開關。純品的六氟化硫氣體滅弧后能夠迅速恢復還原,所以可以在設備中反復使用,六氟化硫公司,非常適合需要頻繁操作的場所。但是如果SF6氣體質量不合格,雜質尤其是水分超標,出現(xiàn)六氟化硫微水過多的問題,在高壓電弧的作用下,就會生成亞硫酸、等有毒腐蝕性產物。六氟化硫氣體水分的危害非常大!
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