如果六氟化硫氣體中含有超過(guò)規(guī)定的水分，當(dāng)其濕度發(fā)生變化時(shí)，就可能凝結(jié)在固體絕緣表面使該面變潮，這時(shí)設(shè)備的沿面放電電壓將顯著下降。六氟化硫氣體在電弧和電暈作用下分解生成的低氟化合物氣體，假如沒有水分子這個(gè)外部條件是不會(huì)生成SO2、HF及其它有害物質(zhì)的，從而也就可以避免由它們產(chǎn)生的設(shè)備腐蝕。所以，設(shè)備充裝六氟化硫氣體必須嚴(yán)密措施防止水分進(jìn)入。

六氟化硫氣體泄漏檢測(cè)技術(shù)

 SF6氣體泄漏檢測(cè)主要采用了電化學(xué)技術(shù)、電i擊穿技術(shù)和紅外光譜吸收技術(shù)。

 1、電化學(xué)技術(shù)：電化學(xué)技術(shù)的原理是被檢測(cè)氣體接觸到200°C左右高溫的催化劑表面，并與之發(fā)生相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)，六氟化硫供應(yīng)商，從而產(chǎn)生電信號(hào)的改變，以此來(lái)發(fā)現(xiàn)被檢測(cè)氣體。

 2、電i擊穿技術(shù)：電i擊穿技術(shù)是從SF6氣體在電力上的典型應(yīng)用——作為絕緣氣體應(yīng)用在GIS開關(guān)柜中演變而來(lái)的。其工作原理是根據(jù)SF6氣體絕緣的特性，從置于被檢測(cè)空氣中的高壓電極間電壓的變化來(lái)判斷空氣中是否含有SF6氣體。

 3、紅外光譜吸收技術(shù)：紅外光譜吸收技術(shù)(又稱激光技術(shù)）的原理是SF6作為溫室氣體，對(duì)特定波段的紅外光有很強(qiáng)烈的吸收特性。

 六氟化硫的使用可以增加設(shè)備運(yùn)行的安全性、縮小設(shè)備體積、延長(zhǎng)設(shè)備壽命。近幾年，國(guó)家大力發(fā)展基礎(chǔ)電力行業(yè)，淮安六氟化硫，給六氟化硫廠家?guī)?lái)了很大的市場(chǎng)機(jī)遇。

高純六氟化硫(純度在99.99%以上)，國(guó)內(nèi)需求非常旺盛，而且附加值較高。

 高純六氟化硫主要用于半導(dǎo)體工業(yè)中作清洗氣體。

 六氟化硫的成本只有NF3的幾分之一，近年來(lái)，六氟化硫制備，各公司以廉價(jià)的SF6取代以往CVD工藝中作為清洗氣體的NF3的新技術(shù)正被廣泛研究。

 該技術(shù)在大幅降低液晶產(chǎn)品加工中占相當(dāng)比例的CVD氣體成本的同時(shí)，還顯示出了極i佳的環(huán)保前景，近年來(lái)用量有明顯的提高。

 據(jù)權(quán)i威機(jī)構(gòu)預(yù)測(cè)，2010年我國(guó)將成為僅次于美國(guó)的世界第二大集成電路市場(chǎng)，總需求量約為500億美元。目前國(guó)內(nèi)使用高純六氟化硫作為蝕刻氣的生產(chǎn)線約有50條左右預(yù)計(jì)。2016年將達(dá)到700噸左右，

 國(guó)內(nèi)使用六氟化硫作為蝕刻氣的生產(chǎn)線有近50條，在未來(lái)的五年預(yù)計(jì)將有20條至30條新線建成。每年約消耗高純六氟化硫?yàn)?00噸左右。而國(guó)內(nèi)高純六氟化硫產(chǎn)品遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足市場(chǎng)需求，半導(dǎo)體廠家所用高純產(chǎn)品大部分依賴進(jìn)口，這給高純六氟化企業(yè)提供更多的發(fā)展機(jī)遇。

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