真空鍍膜武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家，主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼，義烏真空鍍膜，鐵，真空鍍膜廠家，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

恒緣鈦金與您分享鋁合金表面處理6大工藝（二）

1.高光切削　

采用精雕機(jī)將鉆石刀加固在高速旋轉(zhuǎn)（一般轉(zhuǎn)速為20000轉(zhuǎn)/分）的精雕機(jī)主軸上去切削零件，在產(chǎn)品表面產(chǎn)生局部的高亮區(qū)域。切削高光的亮度受銑削鉆頭速度的影響，鉆頭速度越快切削的高光越亮，反之則越暗并容易產(chǎn)生刀紋。金屬加工微信，內(nèi)容不錯(cuò)，值得關(guān)注。高光高光切削在手機(jī)的運(yùn)用中特別多，如iphone5，真空鍍膜行業(yè)，近年來部分gao端電視機(jī)金屬邊框采用了高光銑削工藝，加之陽極氧化及拉絲工藝使得電視機(jī)整體充滿了時(shí)尚感與科技的銳利感。

2.陽極氧化　

陽極氧化是指金屬或合金的電化學(xué)氧化，鋁及其合金在相應(yīng)的電解液和特定的工藝條件下，由于外加電流的作用下，在鋁制品(陽極)上形成一層氧化膜的過程。陽極氧化不但可以解決鋁表面硬度、耐磨損性等方面的缺陷，更能延長鋁的使用壽命并增強(qiáng)美觀度，已成為鋁表面處理不可缺少的一環(huán)，是目前應(yīng)用廣且非常成功的工藝。

3.雙色陽極氧化　

雙色陽極氧化是指在一個(gè)產(chǎn)品上進(jìn)行陽極氧化并賦予特定區(qū)域不同的顏色。雙色陽極氧化因?yàn)楣に噺?fù)雜，成本較高；但通過雙色之間的對比，更能體現(xiàn)出產(chǎn)品的高l端、獨(dú)特外觀。

真空鍍膜武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家，主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

恒緣鈦金與您分享蒸發(fā)鍍膜

通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)鍍膜設(shè)備結(jié)構(gòu)

蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間(或決定于裝料量)，并與源和基片的距離有關(guān)。對于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。

真空鍍膜武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家，主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

恒緣鈦金與您分享什么是PVD真空電鍍，都有那些工序

濕法工藝：1.化學(xué)浸鍍2.電鍍3.噴導(dǎo)電涂料干法工藝 1.真空蒸鍍2.陰極濺鍍 3.離子鍍 4.燙金5.熔融噴鍍真空蒸鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。

加熱金屬的方法：有利用電阻產(chǎn)生的熱能，也有利用電子束的。在對塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí)，為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，必須對蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過程中和其他分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等)，真空鍍膜加工廠，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。

通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低( 10-5Pa )。鍍層厚度0.04-0.1um，太薄，反射率低;太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時(shí)反射率為90%

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