半導(dǎo)體、集成電路生產(chǎn)的無塵車間要求

半導(dǎo)體材料提純作為發(fā)展半導(dǎo)體器件的重要基礎(chǔ)。由于大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的工藝要求，為得到高純度的硅材料，原料和中間媒介的高純度和生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度成為影響產(chǎn)品質(zhì)量的一個突出問題。集成電路芯片的成品率與芯片的缺陷密度有關(guān)，而芯片的缺陷密度與空氣中粒子個數(shù)有關(guān)。因此，集成電路的高速發(fā)展，不僅對空氣中控制粒子的尺寸有極高的要求，潔凈室廠家，而且也需進一步控制粒子數(shù)；同時，對于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)環(huán)境的化學(xué)污染控制也有相關(guān)的要求。

GMP凈化車間的標準是什么？

凈化結(jié)構(gòu)的設(shè)計

1.各生產(chǎn)環(huán)節(jié)要相互銜接，還要便于加工過程中的衛(wèi)生控制，潔凈室設(shè)計，避免造成交叉污染；

2.在布局上，要遵循產(chǎn)品的加工進程順序，合肥潔凈室，使產(chǎn)品加工從不清潔的環(huán)節(jié)過渡到清潔環(huán)節(jié)，不允許在加工流程中出現(xiàn)交叉和倒流；

3.車間內(nèi)設(shè)置工器具清洗區(qū)，消毒間，配置公共器具清洗，消毒用的清洗槽，消毒槽和漂洗槽。必要時，車間潔凈室，還可供冷熱水，但熱水的溫度不能低于82℃；

4.凈化車間應(yīng)該擁有良好的除塵通風(fēng)條件并確保氣流方向應(yīng)該是從清潔區(qū)向非清潔區(qū)流動；

5.車間燈具須裝有防護罩。

建設(shè)凈化車間具體的要求

1、生產(chǎn)研究過程應(yīng)盡可能短，并應(yīng)完成清理渠道的安裝。有必要合理安排凈化車間以供人員使用，包括更衣室，儲藏室，緩沖室和臨時儲藏室。貨物通過時應(yīng)設(shè)有緩沖室，轉(zhuǎn)運窗和外包室。

2、嚴格按照清潔工程的清潔度水平進行設(shè)計和施工，從高到低，從內(nèi)到外。

3、為了防止?jié)崈羰抑g的交叉污染，潔凈室應(yīng)設(shè)計有不同的空氣凈化室或潔凈室內(nèi)的防污染措施。小物品的轉(zhuǎn)移應(yīng)通過轉(zhuǎn)移窗口發(fā)送。

4、凈化車間的凈化空氣量應(yīng)確保室內(nèi)正壓所需的空氣量和滿足室內(nèi)排風(fēng)量，并應(yīng)配備潔凈空調(diào)房。

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