公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

機(jī)顯時(shí)還要注意以下幾點(diǎn)：①要定期維護(hù)顯影機(jī)，以保證已曝光的PS版顯影能正常進(jìn)行。②在顯影之前必須保持各傳動(dòng)輥清潔，若牽引輥不干凈，顯影時(shí)印版易粘上臟點(diǎn)。③如顯影機(jī)有涂膠裝置，一定注意膠輥要保持清潔，否則要弄臟印版。④一般情況下，陽圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L。⑤上保護(hù)膠時(shí)，制版公司，一定要均勻施膠，不能太厚，以免干后導(dǎo)致涂層龜裂和掉版。

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，制版價(jià)格，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

濺鍍法（Sputtering）：（1）上平行板：裝載濺鍍金屬的靶材；下平行板：作為濺鍍對(duì)象的玻璃基板。（2）將氣（Ar 2 ）通入反應(yīng)艙中形成等離子體；離子（Ar ）在電場(chǎng)中被加速后沖撞靶材；受沖擊的靶材原子會(huì)沉積在玻璃基板上從而形成薄膜。

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，制版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，制版廠家，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光學(xué)掩模板的應(yīng)用

光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成電路）芯片，還應(yīng)用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。

光掩膜所起的作用類似于底片之于相片，光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影，這種方法就是熟稱的曝光，這個(gè)時(shí)候的掩膜也可稱為光罩。

準(zhǔn)納光電制作掩膜板，光刻鉻版，設(shè)計(jì)，制作，加工，批量化生產(chǎn) 蝕刻工藝 精度1um 承接掩模板，光刻鉻板，標(biāo)定板，光柵板，分劃板，異型玻璃加工

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