公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實(shí)際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，制版，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實(shí)際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。 

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，制版廠家，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

在容柵電子光學(xué)微影技術(shù)性中，光罩表層的擋光圖樣會(huì)與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。另一個(gè)，當(dāng)施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時(shí)，光罩與光阻層會(huì)造成不確定性的間隙與間距，而導(dǎo)致光源的光學(xué)散射與繞射，制版公司，從而導(dǎo)致曝i光的規(guī)格偏差，制版價(jià)格，而且導(dǎo)致光阻層淺部一部分的側(cè)面曝i光范疇擴(kuò)張，因此沒法制做出深?yuàn)W長(zhǎng)寬比的光阻構(gòu)造。

掩膜版是對(duì)勻膠鉻版經(jīng)過光繪加工后的產(chǎn)品。勻膠鉻版(光掩膜基版)由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構(gòu)成的。通過光刻制版工藝，將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。

根據(jù)基板材質(zhì)的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。

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