手機(jī)行業(yè)的PVD真空泵維修技術(shù)

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類,PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。

PVD鍍膜膜層的厚度—PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

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真空泵維修方法制備有機(jī)功能薄膜的技術(shù)

NO.2

1012bit／cm2稱為超高密度信息存儲(chǔ),主要是數(shù)字0和1的存儲(chǔ),安是納米電子學(xué)的基礎(chǔ)。每個(gè)信息存儲(chǔ)點(diǎn)的尺寸小于10nm,它含有的原子數(shù)有限。作為功能點(diǎn)與傳統(tǒng)的元件相比,它的特征是體積更?。?lt;109個(gè)原子）、材料更純（雜質(zhì)缺陷<10-8）、信號(hào)功率更低（<10-12焦耳）、信號(hào)的寫(xiě)入讀出的響應(yīng)速度快（<納秒）。因此，超高密度信息存儲(chǔ)的研究要求發(fā)展新理論、新材料和新的組裝加工技術(shù)。

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真空泵維修技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)—和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：

A.膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng)，更加持久和耐磨

B.離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件0v R0S4

C.膜層沉積速率快，生產(chǎn)

D.可鍍膜層種類廣泛

E.膜層性能穩(wěn)定、安全性高(獲得FDA認(rèn)證，可植入人體).

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