刻蝕過(guò)程

普通的刻蝕過(guò)程大致如下：先在表面涂敷一層光致抗蝕劑，然后透過(guò)掩模對(duì)抗蝕劑層進(jìn)行選擇性曝光，轟擊離子束刻蝕機(jī)，由于抗蝕劑層的已曝光部分和未曝光部分在顯影液中溶解速度不同，經(jīng)過(guò)顯影后在襯底表面留下了抗蝕劑圖形，以此為掩模就可對(duì)襯底表面進(jìn)行選擇性腐蝕。如果襯底表面存在介質(zhì)或金屬層，則選擇腐蝕以后，圖形就轉(zhuǎn)移到介質(zhì)或金屬層上。

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離子束刻蝕機(jī)

離子束是指以近似一致的速度沿幾乎同一方向運(yùn)動(dòng)的一群離子。離子源用以獲得離子束的裝置。在各類離子源中，用得較多的是等離子體離子源，即用電場(chǎng)將離子從一團(tuán)等離子體中引出來(lái)。這類離子源的主要參數(shù)由等離子體的密度、溫度和引出系統(tǒng)的質(zhì)量決定。屬于這類離子源的有:潘寧放電型離子源射頻離子源、微波離子源、雙等離子體源、富立曼離子源等。另一類使用較多的離子源是電子碰撞型離子源，主要用于各種質(zhì)譜儀器中。

離子束刻蝕機(jī)的應(yīng)用

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應(yīng)用先進(jìn)的離子束濺射和離子束刻蝕工藝，將應(yīng)變電橋直接制作在金屬測(cè)壓膜片上。由于不用傳統(tǒng)的膠粘工藝，顯著改善了應(yīng)變式傳感器的長(zhǎng)期穩(wěn)定性及抗蠕變特性，使產(chǎn)品使用的溫度范圍大為擴(kuò)展。由于沒(méi)有活動(dòng)部件，抗振動(dòng)和抗沖的能力很強(qiáng)，可用于惡劣的環(huán)境。

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