離子束刻蝕機

離子束刻蝕是利用離子束直接轟擊工件，將工件上的材料濺射出來，轟擊離子束刻蝕機工作原理，實現材料去除的目的。離子束刻蝕是純物理刻蝕過程，在各種常規(guī)刻蝕方法中具有分辨率較高、陡直性較好的特點。應用于在基板表面拋光或材料的去除，尤其適用于金屬材料薄膜的刻蝕，如Cu、Au、Pt、Ti、Ni、niCr等。

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刻蝕技術

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刻蝕技術（etching technique），是在半導體工藝，按照掩模圖形或設計要求對半導體襯底表面或表面覆蓋薄膜進行選擇性腐蝕或剝離的技術。刻蝕技術不僅是半導體器件和集成電路的基本制造工藝，而且還應用于薄膜電路、印刷電路和其他微細圖形的加工?？涛g還可分為濕法刻蝕和干法刻蝕。

離子束刻蝕

利用低能量平行Ar 離子束對基片表面進行轟擊，轟擊離子束刻蝕機報價，表面上未被掩膜覆蓋部分的材料被濺射出，從而達到選擇刻蝕的目的，轟擊離子束刻蝕機，它采用純物理的刻蝕原理。離子束刻蝕是目前所有刻蝕方法中分辨率較高，陡真性較好的方法，它可以對所有材料進行刻蝕，例如：金屬、合金、氧化物、化合物、混合材料、半導體、絕緣體、超導體等。

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