磁控濺射鍍膜機

銦錫氧化物( Indium Tin Oxide ，簡稱ITO) 薄膜是一種用途廣泛的透明導(dǎo)電材料，已成熟的應(yīng)用于電機車擋風(fēng)玻璃、液晶顯示器件、太陽能電池、全息照相和液晶彩色電視等，蓄勢待發(fā)的應(yīng)用領(lǐng)域為有機發(fā)光二極管顯示器(Organic Light-Emitting Diode ，簡稱OLED) 。從應(yīng)用角度出發(fā)，通常要求ITO 薄膜的成份是In2O3 和SnO2 ，薄膜中銦錫低價化合物愈少愈好。ITO 薄膜的制備方法很多，如噴涂、蒸發(fā)、射頻濺射和磁控濺射等。隨著液晶顯示器技術(shù)向高精細(xì)化和大型化發(fā)展，磁控濺射法備受歡迎。

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我國真空鍍膜機行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和前景分析

我國鍍膜機械，經(jīng)過了幾十年發(fā)展，形成了門類齊全、布局合理，直流磁控濺射，品種配套，真空鍍膜技術(shù)水平與鍍膜工業(yè)發(fā)展基本適應(yīng)的體系，真空鍍膜設(shè)備已經(jīng)不能再叫新行業(yè)了，其是一個有創(chuàng)新能力的成熟行業(yè)，鍍膜技術(shù)從重污染轉(zhuǎn)為輕污染直至以后的無污染，創(chuàng)新是前提，隨著更新型節(jié)能環(huán)保的真空機械設(shè)備研發(fā)必將改變整個工業(yè)。

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磁控濺射中靶zhong毒是怎么回事，一般的影響因素是什么？

靶zhong毒現(xiàn)象

(1)正離子堆積：靶zhong毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進行下去。（2）陽極消失：靶zhong毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現(xiàn)象。

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