磁控濺射鍍膜設(shè)備的主要用途

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1.各種各樣多功能性的塑料薄膜鍍一層薄薄的膜。所鍍的膜通?？梢韵铡⑸⑸?、反射面、折射角、偏光等實際效果。 

2.服裝裝飾設(shè)計應(yīng)用領(lǐng)域，例如各種各樣光的反射鍍一層薄薄的膜及其透明色鍍一層薄薄的膜，可可用在手機殼、電腦鼠標等商品上。 

3.電子光學制造行業(yè)行業(yè)中，其是這種非快熱式鍍一層薄薄的膜技術(shù)性，關(guān)鍵運用在有機化學氣候堆積上。 

4.在電子光學行業(yè)中主要用途極大，例如光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和全透明導(dǎo)電性夾層玻璃等層面獲得運用。 

5.在機械制造業(yè)生產(chǎn)加工中，其表層作用膜、超硬膜這些。其功效可以出示物件表層強度進而提升有機化學可靠性能，可以增加物件應(yīng)用周期時間。

磁控濺射技術(shù)鍍膜

磁控濺射技術(shù)鍍膜是一種重要的物理的氣相沉積鍍膜技術(shù)，這種工藝可工業(yè)化批量生產(chǎn)。本文重點探討了磁控濺射在光學鍍膜中的應(yīng)用，包括膜層設(shè)計和鍍膜工藝。

光學鍍膜設(shè)計

（1）減反射膜

減反射也稱增透膜，這種膜主要鍍在透明低折射率基底上，如玻璃上鍍減反射膜，常見的膜層結(jié)構(gòu)采用高、低折射率膜層疊加而成

（2）彩色鍍膜 彩色鍍膜主要也是在玻璃等透明基底上鍍膜，磁控濺射鍍膜機，其膜層材料和結(jié)構(gòu)類似減反射鍍膜。這種玻璃在可見光下透射和反射的顏色不同。

3）漸變反射膜 漸變反射膜是一種在不同角度觀察，反射的顏色不同的膜層。這種膜層可以鍍在玻璃，也可以鍍在金屬基底。

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磁控濺射

磁控濺射靶材的利用率可成為磁控濺射源的工程設(shè)計和生產(chǎn)工藝成本核算的一個參數(shù)。目前沒有見到對磁控濺射靶材利用率專門或系統(tǒng)研究的報道，而從理論上對磁控濺射靶材利用率近似計算的探討具有實際意義。對于靜態(tài)直冷矩形平面靶，即靶材與磁體之間無相對運動且靶材直接與冷卻水接觸的靶，?靶材利用率數(shù)據(jù)多在20%~30%左右(間冷靶相對要高一些，但其被刻蝕過程與直冷靶相同，不作專門討論)，且多為估計值。為了提高靶材利用率，研究出來了不同形式的動態(tài)靶，其中以旋轉(zhuǎn)磁場圓柱靶工業(yè)上被廣泛應(yīng)用，據(jù)稱這種靶材的利用率可超過70%，但缺少足夠數(shù)據(jù)或理論證明。常見的磁控濺射靶材從幾何形狀上看有三種類型：矩形平面、圓形平面和圓柱管? 如何提高利用率是真空磁控濺射鍍膜行業(yè)的重點，圓柱管靶利用高，但在有些產(chǎn)業(yè)是不適用的，如何提高靶材利用，請到此一看的朋友，在下面留下你的見解，提供好的方法。

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