離子束刻蝕機(jī)

加速1器從離子源獲得的離子束的能量一般從幾百電子伏到幾萬(wàn)電子伏。因?yàn)橛酶咭鲭妷悍绞将@得較高能量的離子束受到擊穿的限制，所以必須使離子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)中加速，聚焦離子束刻蝕機(jī)報(bào)價(jià)，這類裝置叫做加1速器(見(jiàn)粒子加1速器)使用各種加1速器可以使離子獲得很高的能量（如幾百吉電子伏），也可以使離子減速，以獲得能量較低的（如幾十電子伏）但流強(qiáng)很高的離子束。

影響離子束刻蝕的因素

影響刻蝕效果的因素很多，還有諸如離子刻蝕的二次效應(yīng)、光刻膠掩模圖形的形狀和厚度、源靶距效應(yīng)、離子刻蝕弓起的材料損傷及溫度效應(yīng)等。

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離子束刻蝕

離子束刻蝕是利用具有一定能量的離子轟擊材料表面，聚焦離子束刻蝕機(jī)，使材料原子發(fā)生濺射，從而達(dá)到刻蝕目的.把Ar、Kr或Xe之類惰性氣體充入離子源放電室并使其電離形成等離子體，聚焦離子束刻蝕機(jī)工作原理，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，具有一定能量的離子束進(jìn)入工作室，射向固體表面撞擊固體表面原子，使材料原子發(fā)生濺射，達(dá)到刻蝕目的，屬純物理過(guò)程。

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