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磁控濺射鍍膜的特點
1、靶材粒子能量高(比熱蒸發(fā)高出1個數(shù)量級),所制備膜層更致密,與石英片結(jié)合力更高:
2、一般備有輔助離子源,可以用來清洗石英片,清洗效果好;
3、易于制備熔點高的材料;
4、制備合金膜層,可以保證膜層材料比例與靶材相同;
5、由于裝有中和器,也可以用來制備絕緣膜層。
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真空磁控濺射鍍膜
說白了無心插柳就是說用荷能物體(一般 用稀有氣體的正離子)去轟擊固態(tài)(下列稱靶材)表層,進而造成靶材表層上的分子(或分子結(jié)構(gòu))從在其中逸出的這種狀況。這一狀況是格洛夫(Grove)于1842年在試驗科學研究陰極浸蝕難題時,陰極原材料被轉(zhuǎn)移到真空管內(nèi)壁而發(fā)覺的。
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我國真空鍍膜機行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和前景分析
當前我國真空鍍膜設備行業(yè)等傳統(tǒng)制造業(yè)產(chǎn)能過剩已經(jīng)顯現(xiàn),磁控濺射鍍膜機,倒逼效應顯著,國家大力發(fā)展環(huán)保產(chǎn)業(yè),對傳統(tǒng)電鍍行業(yè)予以取締或轉(zhuǎn)型或限產(chǎn),這正是離子鍍膜行業(yè)發(fā)展的大好時機。真空鍍膜的高性價比以及傳統(tǒng)電鍍對環(huán)境的污染迫使真空鍍膜成為了主流,各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設備不斷增加。
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