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檢漏設(shè)備生產(chǎn)廠家

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發(fā)布時(shí)間:2020-08-05 08:05  
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視頻作者:深圳銳誠(chéng)真空技術(shù)有限公司





氦質(zhì)譜檢漏原理

深圳銳誠(chéng)真空**生產(chǎn)、銷(xiāo)售氦檢漏設(shè)備,我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)是以無(wú)色、無(wú)味的惰性氣體氦氣為示蹤介質(zhì)、以磁質(zhì)譜分析儀為檢測(cè)儀器,用于檢漏的一種檢測(cè)技術(shù),氦檢漏設(shè)備,它的檢漏靈敏度可達(dá)10-14~10-15Pam3/s,可以準(zhǔn)確確定漏孔位置和漏率。氦質(zhì)譜檢漏儀主要由質(zhì)譜室、真空系統(tǒng)組件和電子學(xué)控制元件三大部分組成。質(zhì)譜室接在分子泵的高真空端,入口接在分子泵和機(jī)械泵之間,氦檢漏設(shè)備價(jià)格,利用分子泵對(duì)不同氣體具有不同壓縮比的特點(diǎn),氦氣逆著分子泵的抽氣方向進(jìn)入質(zhì)譜室。檢漏儀在質(zhì)譜室中將氣體電離,這些離子在加速電場(chǎng)的作用下進(jìn)入磁場(chǎng),在洛倫茲力作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn),由于不同荷質(zhì)比的離子具有不同的電磁學(xué)特性,偏轉(zhuǎn)半徑各不相同,在擋板的作用下,氦檢漏設(shè)備保養(yǎng),氦檢漏儀的收集板只允許帶正電的氦離子被接收到,單位時(shí)間到達(dá)收集板的氦離子對(duì)應(yīng)于一個(gè)電流信號(hào),這個(gè)電流信號(hào)正比于進(jìn)入到達(dá)收集板氦離子的數(shù)量,電流信號(hào)經(jīng)過(guò)放大后顯示在質(zhì)譜儀的顯示面板上,其大小反映了泄漏點(diǎn)的漏率,通過(guò)泄漏率大小來(lái)確定該位置泄漏程度的大小。

氦質(zhì)譜檢漏儀的示蹤氣體選用氦氣,是因?yàn)楹饩哂幸韵聝?yōu)良特性:

①氦氣在空氣中的含量少,體積含量為5.24×10-6,如果氦氣在環(huán)境中的含量超過(guò)標(biāo)準(zhǔn),可以比較容易地探測(cè)到極微量的氦氣;

②氦分子小、質(zhì)量輕、易擴(kuò)散、易穿越漏孔、易于檢測(cè)也易于清除;

③氦離子荷質(zhì)比小,易于進(jìn)行質(zhì)譜分析;

④氦氣是惰性氣體,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,不會(huì)腐蝕和損傷任何設(shè)備;

⑤氦氣無(wú)毒,不凝結(jié),極難容于水。




氦檢漏設(shè)備簡(jiǎn)介

中文名:真空檢漏

拼音:zhenkong jianlou

英文名:vacuum leak detection

真空系統(tǒng)、容器或器件的器壁因材料本身缺陷或焊縫、機(jī)械連接處存在孔洞、裂紋或間隙等缺陷,外部大氣通過(guò)這些缺陷進(jìn)入系統(tǒng)內(nèi)部,致使系統(tǒng)、容器或器件達(dá)不到預(yù)期的真空度,這種現(xiàn)象稱(chēng)為漏氣。造成漏氣的缺陷稱(chēng)為漏孔。漏孔尺寸微小、形狀復(fù)雜,無(wú)法用幾何尺寸表示,因此在真空技術(shù)中用漏率來(lái)表示漏孔的大小。漏率是指單位時(shí)間內(nèi)漏入系統(tǒng)的氣體量,其單位為帕·米3/秒(Pa·m3/sec)或托·升/秒(Torr·L/sec)。

1Pa·m3/sec=7.5(Torr·L/sec)

真空檢漏技術(shù)就是用適當(dāng)?shù)姆椒ㄅ袛嗾婵障到y(tǒng)、容器或器件是否漏氣、確定漏孔位置及漏率大小的一門(mén)技術(shù),相應(yīng)的儀器稱(chēng)為檢漏儀。在真空系統(tǒng)、容器、器件制造過(guò)程中借助真空檢漏技術(shù)確定它們的真空氣密性、探查漏孔的位置,以便采取措施將漏孔封閉從而使系統(tǒng)、容器、器件中的真空狀態(tài)得以維持。


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真空法氦質(zhì)譜檢漏原理

真空法氦質(zhì)譜檢漏原理:

采用真空法檢漏時(shí),需要利用輔助真空泵或檢漏儀對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí),氦氣就會(huì)通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測(cè)量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實(shí)現(xiàn)漏孔的定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來(lái),在罩內(nèi)充滿(mǎn)一定濃度的氦氣,可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測(cè)量。

真空法檢漏有何優(yōu)點(diǎn):真空法的優(yōu)點(diǎn)是檢測(cè)靈敏度高,可以定位漏孔,能實(shí)現(xiàn)大容器或復(fù)雜結(jié)構(gòu)產(chǎn)品的檢漏。

真空法檢漏缺點(diǎn):真空法的缺點(diǎn)是只能實(shí)現(xiàn)一個(gè)大氣壓差的漏率檢測(cè),不能真實(shí)反映帶壓被檢產(chǎn)品的真實(shí)泄漏狀態(tài)。

用途:真空法的檢測(cè)主要應(yīng)用于真空密封性能要求,檢漏設(shè)備生產(chǎn)廠家,但不帶壓工作的產(chǎn)品,如空間活動(dòng)部件、液氫槽車(chē)、環(huán)境模擬設(shè)備等。

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