高純水設(shè)備基本內(nèi)容

EDI高純水設(shè)備[1]作為制取超純水的設(shè)備，作為反滲透設(shè)備后的二次除鹽設(shè)備，可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業(yè)，半導(dǎo)體工業(yè)，發(fā)電工業(yè)，制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用高純水。

EDI高純水設(shè)備是一種具有革命性意義的水處理技術(shù)設(shè)備，它巧妙地將電滲EDI高純水設(shè)備析與離子交換有機(jī)地結(jié)合在一起的膜分離脫鹽工藝，屬高科技綠色環(huán)保設(shè)備。EDI高純水設(shè)備具有連續(xù)出水、無需酸堿再生和無人值守等優(yōu)點(diǎn)，實(shí)驗(yàn)室高純水設(shè)備哪家好，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步代替混床作為精處理設(shè)備使用。

EDI技術(shù)應(yīng)用電再生離子交換除鹽工藝取代傳統(tǒng)混合離子交換除鹽工藝。通過離子交換樹脂及選擇性離子膜達(dá)到高脫鹽效果，與反滲透結(jié)合的聯(lián)合工藝使產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá)10~15MΩ·CM的高規(guī)格產(chǎn)水。

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高純水設(shè)備水質(zhì)要求

TEA( 含 CO 2 ) <25mg/LasCaCO 3 PH 5 - 9

硬度 < 0.1 mg/LasCaCO 3 硅 <0.5mg/L

TOC <0.5 mg/L 余氯 <0.05mg/L

Fe ， Mn ， H 2 S <0.01 mg/L 進(jìn)水壓 30 － 100PSI

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高純水設(shè)備工作原理 

1.水進(jìn)入 EDI 系統(tǒng)，主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部，而另一部分沿模板外側(cè)流動(dòng)，以洗去透出膜外的離子。

2.樹脂截留水中的溶存離子。

3.被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運(yùn)動(dòng)，陽離子向負(fù)極方向運(yùn)動(dòng)。

4.陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外。

5.陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外。

6.濃縮了的離子從廢水流路中排出。

7.無離子水從樹脂/膜內(nèi)流出。

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