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離子氮化爐-湖北豐熱科技公司(圖)

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發(fā)布時(shí)間:2019-12-06 15:00  





湖北豐熱科技有限公司(原武漢離子熱處理研究所),**制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè);是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐,并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

用于磁控濺射鍍膜氣體放電的交流電源主要有雙極性脈沖(矩形波或正弦波)中頻靶電源與射頻靶電源兩大類別。?雙極脈沖中頻靶電源用于輝光放電?。矩形波或正弦波中頻靶電源進(jìn)行1氣體輝光放電有很多共同特點(diǎn)


湖北豐熱科技有限公司(原武漢離子熱處理研究所),**制造輝光離子滲氮爐的高新技術(shù)企業(yè);是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐,并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術(shù)服務(wù)。

兩種靶電源不同之處:選用(工藝型)雙極矩形波或正弦波中頻靶電源,因其輸出的電壓和電流的占空比可以大范圍連續(xù)調(diào)節(jié),鍍膜時(shí)電源的工藝參數(shù)適應(yīng)范圍比“經(jīng)濟(jì)型”中頻靶電源要寬很多;適用于需要經(jīng)常變化的磁控濺射鍍膜工藝和不同材質(zhì)的膜層。?(經(jīng)濟(jì)型)雙極性矩形波或正弦波中頻靶電源的輸出電壓或電流的工藝調(diào)節(jié)范圍偏窄,若相關(guān)參數(shù)選配合適,一般可用于磁控濺射鍍膜工藝相對固定和單一的工業(yè)生產(chǎn)中,其優(yōu)點(diǎn)是靶電源價(jià)格可以相對便宜。??


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1992年,Roth小組在5mm氦氣間隙實(shí)現(xiàn)了APGD,并聲稱在幾個(gè)毫米的空氣間隙中也實(shí)現(xiàn)了APGD, 主要的實(shí)驗(yàn)條件為濕度低于15% 、氣體流速50l/min、頻率為3kHz的電源并且和負(fù)載阻抗匹配。他們認(rèn)為“離子捕獲”是實(shí)現(xiàn)APGD的關(guān)鍵。


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