物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過(guò)氣相過(guò)程，在材料表面沉積一層薄膜的技術(shù)。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡(jiǎn)單、省材料、無(wú)污染；獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點(diǎn)。

廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤(rùn)、超導(dǎo)等薄膜。

氣相沉積技術(shù)是指將含有沉積元素的氣相物質(zhì)，通過(guò)物理或化學(xué)的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術(shù)。

根據(jù)沉積過(guò)程的原理不同，氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)兩大類(lèi)。

80 年代又開(kāi)發(fā)了磷酸鋯和磷酸鈦配方，被廣泛應(yīng)用于易拉罐表面鈍化。其無(wú)鉻鈍化產(chǎn)品Alodine(阿洛丁)5200 的處理時(shí)間為5 ~ 120 s，溫度20 ~ 30 °C，處理液pH 為3.0 ~ 3.6，所獲得的涂層由30% ~ 40%的鋯(鈦)鹽、25% ~ 35%的鋁的氧化物、5% ~ 15%的鋁的氟化物和2% ~ 30%的有機(jī)聚合物組成。其特點(diǎn)是：無(wú)重金屬，金屬鍍鎳廠，降低了污水處理的成本，金屬表面鍍鎳，減少了重金屬對(duì)環(huán)境的污染，金屬鍍鎳工藝，改善了操作工人的作業(yè)環(huán)境；基于鋯鹽和鈦鹽以及聚合物等，取代了重金屬鈍化膜；室溫處理，節(jié)約能源；鈍化時(shí)間短，提高了生產(chǎn)效率；既可用于噴淋也可用于浸漬；為有機(jī)涂層提供了的基底。

鋯鈦體系目前在鋁罐、室內(nèi)散熱器和鋁輪轂等方面已獲得了應(yīng)用，但其耐蝕性能仍低于鉻酸鹽膜，而且經(jīng)此工藝處理后的轉(zhuǎn)化膜沒(méi)有顏色，給工業(yè)生產(chǎn)帶來(lái)了一定的困難，因而在高耐候性和高耐蝕性要求的產(chǎn)品上還很少應(yīng)用。

單色、漸變色：拋光/噴砂/拉絲→除油→陽(yáng)極氧化→中和→染色→封孔→烘干

②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽(yáng)極氧化1 →鐳雕→陽(yáng)極氧化2 →封孔→烘干

技術(shù)特點(diǎn):

1、提升強(qiáng)度，

3、實(shí)現(xiàn)無(wú)鎳封孔，保定金屬鍍鎳，滿(mǎn)足歐、美等國(guó)家對(duì)無(wú)鎳的要求。

技術(shù)難點(diǎn)及改善關(guān)鍵點(diǎn)：

陽(yáng)極氧化的良率水平關(guān)系到最終產(chǎn)品的成本，提升氧化良率的重點(diǎn)在于適合的氧化劑用量、適合的溫度及電流密度，這需要結(jié)構(gòu)件廠商在生產(chǎn)過(guò)程中不斷探索，尋求突破。

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