物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，靜電噴涂廠家，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過氣相過程，在材料表面沉積一層薄膜的技術。

物理沉積技術主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍三種基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點。

廣泛用于機械、航空航天、電子、光學和輕工業(yè)等領域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導電、絕緣、光學、磁性、壓電、滑潤、超導等薄膜。

氣相沉積技術是指將含有沉積元素的氣相物質，靜電噴涂加工，通過物理或化學的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術。

根據(jù)沉積過程的原理不同，河北靜電噴涂，氣相沉積技術可分為物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)兩大類。

鎂合金的耐腐蝕性是碳鋼的8倍，鋁合金的4倍，更是塑料的10倍以上，靜電噴涂設備，防腐能力是合金中者。常用的鎂合金具有不可燃性，尤其是使用在汽機車零部件以及建筑材料上，可以避免瞬間的燃燒。鎂在地殼中的儲量居第8位，大部分的鎂原料自海水中提煉，所以它的資源是穩(wěn)定充分的。

材料特性：輕量化的結構、剛性高且耐沖擊、優(yōu)良的耐腐蝕性、良好的熱傳導性和電磁遮蔽、良好的不可燃性、耐熱性較差、易回收。

典型用途： 廣泛應用于航空航天、汽車、電子、移動通訊、冶金等領域。

單色、漸變色：拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化→中和→染色→封孔→烘干

②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽極氧化1 →鐳雕→陽極氧化2 →封孔→烘干

技術特點:

1、提升強度，

3、實現(xiàn)無鎳封孔，滿足歐、美等國家對無鎳的要求。

技術難點及改善關鍵點：

陽極氧化的良率水平關系到最終產品的成本，提升氧化良率的重點在于適合的氧化劑用量、適合的溫度及電流密度，這需要結構件廠商在生產過程中不斷探索，尋求突破。

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