拋丸的特點(diǎn)：

1、靈活性差。受場(chǎng)地的限制，清理工件有些盲目性，在工件內(nèi)衛(wèi)表面易產(chǎn)生清理不到的死角、

2、不用壓縮空氣加速?gòu)椡?，不必設(shè)置大功率的空壓站，

3、清理表面不易有潮氣，不容易生繡。

4、設(shè)備結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜，易損件多，特別是葉片等零件，鋁氧化處理廠家，維修工時(shí)多，鋁氧化處理加工廠，費(fèi)用高。

5、清理效率高，費(fèi)用低，操作人員少，北京鋁氧化處理，容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制，適用于大批量生產(chǎn)。

首先我們來了解下什么是電鍍

電鍍就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化（如銹蝕），提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性（硫酸銅等）及增進(jìn)美觀等作用。

電鍍中又分為鍍銅、鍍金、鍍銀、鍍鉻、鍍鎳和鍍鋅等具體工藝，在制造業(yè)領(lǐng)域尤其對(duì)鍍鋅、鍍鎳和鍍鉻應(yīng)用最廣。

天津市玉德金金屬制品有限公司是一家多年從事金屬表面處理的**廠家。內(nèi)容包括：鋁合金陽(yáng)極氧化，鋁合金著色氧化，鑄鋁（壓鑄鋁）硬質(zhì)氧化，光亮、亞光氧化，導(dǎo)電鋁合金氧化，鋁合金表面噴砂等鋁制品表面處理。

物理沉積技術(shù)主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍?nèi)N基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡(jiǎn)單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強(qiáng)、膜層厚度均勻、致密、少等優(yōu)點(diǎn)。

廣泛用于機(jī)械、航空航天、電子、光學(xué)和輕工業(yè)等領(lǐng)域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導(dǎo)電、絕緣、光學(xué)、磁性、壓電、滑潤(rùn)、超導(dǎo)等薄膜。

化學(xué)氣相沉積（CVD）

化學(xué)氣相沉積是指在一定溫度下，混合氣體與基體表面相互作用而在基體表面形成金屬或化合物薄膜的方法。

由于化學(xué)氣相沉積膜層具有良好的耐磨性、耐蝕性、耐熱性及電學(xué)、光學(xué)等特殊性能，已被廣泛用于機(jī)械制造、航空航天、交通運(yùn)輸、煤化工等工業(yè)領(lǐng)域。

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