微弧氧化膜層的性能能夠達(dá)到何種程度？

       一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內(nèi)部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結(jié)合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因?yàn)閺纳晌飦砜?，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧化鎂，微弧氧化電源設(shè)備，鋁表面氧化膜硬度高可以達(dá)到HV3000。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結(jié)合力，對膜層整體性能不利。因此，微弧氧化電源參數(shù)，一般很少單獨(dú)強(qiáng)調(diào)某種性能。只是如果有特殊要求，可以提出，微弧氧化電源原理，整體加以調(diào)制，在滿足特殊需求的基礎(chǔ)上使膜層整體具有良好性能。如，某鎂合金需要耐蝕，可以根據(jù)需求對膜層厚度、溶液成分等進(jìn)行調(diào)制，滿足耐蝕400小時(shí)、600小時(shí)等特殊需求。

微弧氧化的應(yīng)用領(lǐng)域

      微弧氧化技術(shù)生成陶瓷膜的特點(diǎn)決定了其特別適合于對高速運(yùn)動且耐磨耐蝕性能要求高的部件處理。微弧化膜具備了陽極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優(yōu)點(diǎn)，可以部分替代它們的產(chǎn)品， 在軍事用、航空、航天、機(jī)械、紡織、汽車、醫(yī)用、電子、裝飾等許多領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化圖片、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化設(shè)備

       微弧氧化是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加高電壓，使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，它是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術(shù)，與傳統(tǒng)的陽極氧化法相比，微弧氧化電源，微弧氧化陶瓷膜與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應(yīng)用前景。

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