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上海德國(guó)3D打印PPGT 納糯三維科技供應(yīng)

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發(fā)布時(shí)間:2024-11-12 00:14  

Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成,從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示,折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列,以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶的項(xiàng)目,打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?,可在一開(kāi)始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè),并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像。微納3D打印的精度能達(dá)到細(xì)觀、微觀和納觀(即十億分之一米)級(jí)別。上海德國(guó)3D打印PPGT

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Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭上海3D打印PPGT了解更多雙光子微納3D打印技術(shù)和產(chǎn)品信息,請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過(guò)激光直寫(xiě)而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求

Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無(wú)掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過(guò)2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。Nanoscribe憑借其過(guò)硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)于主導(dǎo)地位,并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技(上海)有限公司歡迎您一起探討雙光子微納3D打印技術(shù)信息。

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工業(yè)級(jí)3D打印技術(shù)正以驚人的速度改變著制造業(yè)的面貌。作為一種創(chuàng)新的制造方式,它不僅能夠提高生產(chǎn)效率,降低成本,還能夠?qū)崿F(xiàn)個(gè)性化定制和快速原型制作。本文將為您介紹工業(yè)級(jí)3D打印的優(yōu)勢(shì)以及其在不同行業(yè)的應(yīng)用。工業(yè)級(jí)3D打印技術(shù)的優(yōu)勢(shì)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面。首先,它能夠?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的制造。相比傳統(tǒng)的制造方式,3D打印可以通過(guò)逐層堆積材料的方式,打印出任意形狀的產(chǎn)品,無(wú)論是內(nèi)部結(jié)構(gòu)還是外部形態(tài),都能夠?qū)崿F(xiàn)精確控制。其次,3D打印可以實(shí)現(xiàn)個(gè)性化定制。傳統(tǒng)制造方式需要大規(guī)模生產(chǎn),而3D打印可以根據(jù)客戶需求,快速制造出符合個(gè)性化要求的產(chǎn)品。此外,3D打印還能夠?qū)崿F(xiàn)快速原型制作,縮短了產(chǎn)品開(kāi)發(fā)周期。無(wú)需機(jī)械加工或任何模具,能直接從計(jì)算機(jī)圖形數(shù)據(jù)中生成任何形狀的零件。上海高精度3D打印微納加工系統(tǒng)

在科研領(lǐng)域,Nanoscribe 的系列3D打印設(shè)備幫助推動(dòng)著微納光學(xué),微機(jī)電系統(tǒng)等等領(lǐng)域的研究和發(fā)展。上海德國(guó)3D打印PPGT

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。上海德國(guó)3D打印PPGT

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