俄亥俄州代頓的美國(guó)空軍技術(shù)學(xué)院的科研人員開(kāi)發(fā)了新一代的基于光纖的傳感器，其部件可實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)旋轉(zhuǎn)。他們使用**支撐結(jié)構(gòu)一步打印了智能化的3D微鉸鏈和可活動(dòng)部件。這種巧妙的設(shè)計(jì)和3D打印策略使優(yōu)化的傳感器（例如具有更高靈敏度的Fabry-Pérot傳感器）和新型傳感器（例如光纖上的3D打印轉(zhuǎn)子）能應(yīng)用于流量測(cè)量。

Fabry-Pérot腔可能是很受歡迎的基于光纖的微型傳感器。傳感器的響應(yīng)基于在腔體內(nèi)部分反射表面之間循環(huán)的單色光的干涉。腔體光程的**小變化都會(huì)導(dǎo)致傳感器輸出的干涉發(fā)生變化。靈敏度隨著腔內(nèi)界面的反射率而增加。腔體中捕獲的光越多，光譜響應(yīng)就越清晰，即體現(xiàn)在更高的品質(zhì)因子。 短期看，3D打印是傳統(tǒng)制造的補(bǔ)充，而不是替代。上海TPP3D打印微納光刻

Nanoscribe首屆線(xiàn)上用戶(hù)大會(huì)于九月順利召開(kāi)，在微流控研究中，通常在針對(duì)微流控器件和芯片的快速成型制作中會(huì)結(jié)合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學(xué)（RWTHUniversityofAachen）和不來(lái)梅大學(xué)（UniversityofBremen）的研究小組提出將三維結(jié)構(gòu)的芯片結(jié)構(gòu)打印到預(yù)制微納通道中。生命科學(xué)研究的驅(qū)動(dòng)力是三維打印模擬人類(lèi)細(xì)胞形狀和大小的支架，以推動(dòng)細(xì)胞培養(yǎng)和組織工程學(xué)。丹麥技術(shù)大學(xué)(DTU)和德國(guó)于利希研究中心的研究團(tuán)隊(duì)展示了他們的成就，并強(qiáng)調(diào)了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學(xué)和光子學(xué)研究中，布魯塞爾自由大學(xué)的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導(dǎo)等解決方案。阿卜杜拉國(guó)王科技大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)3D打印了一個(gè)超小型單纖光鑷，以實(shí)現(xiàn)集成微納光學(xué)系統(tǒng)。連接處理是光子集成研究的挑戰(zhàn)。正如明斯特大學(xué)（WWU）研究人員所示，Nanoscribe微納加工技術(shù)正在驅(qū)動(dòng)研究用于集成納米多孔電路的混合接口方法。麻省理工學(xué)院（MIT）的科學(xué)家們正在使用Nanoscribe的2PP技術(shù)制造用于高密度集成光子學(xué)的光學(xué)自由形式耦合器。上海Nanoscribe3D打印三維光刻3D打印技術(shù)可以制造出傳統(tǒng)制造方法難以加工的復(fù)雜幾何形狀、內(nèi)部結(jié)構(gòu)和空隙結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了設(shè)計(jì)師的無(wú)限創(chuàng)意。

Nanoscribe稱(chēng)，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專(zhuān)利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶(hù)的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?，可在一開(kāi)始就指導(dǎo)設(shè)計(jì)師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計(jì)的灰度圖像。例如，可接受高達(dá)32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進(jìn)行直接制造。在雙光子灰度光刻工藝中，激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實(shí)現(xiàn)同步進(jìn)行，以便對(duì)每個(gè)掃描平面進(jìn)行全體素大小控制。Nanoscribe稱(chēng)，QuantumX在每個(gè)掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡(jiǎn)單和復(fù)雜的光學(xué)形狀，具有可變的特征高度

為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶(hù)的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。長(zhǎng)遠(yuǎn)來(lái)看，3D打印將顛覆傳統(tǒng)制造，實(shí)現(xiàn)大規(guī)模的個(gè)性化服務(wù)提供。

總而言之，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀(guān)尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工。作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線(xiàn)工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線(xiàn)工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。微納米3D打印系統(tǒng)基于新型的面投影微光刻技術(shù)原理設(shè)計(jì)而成，能實(shí)現(xiàn)多材料的微納尺度材料三維打印。上海Nanoscribe3D打印

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光學(xué)和光電組件的小型化對(duì)于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過(guò)傳統(tǒng)的微納3D打印來(lái)制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會(huì)有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問(wèn)題。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu)，包括光子集成電路，光纖頂端和預(yù)制晶片等。Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。上海TPP3D打印微納光刻