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日照微弧(圖)-低電壓微弧氧化技術(shù)-微弧氧化技術(shù)

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發(fā)布時(shí)間:2024-11-01 02:01  
微弧氧化技術(shù)的特點(diǎn)

       

1、微弧氧化采用弱堿性溶液,對(duì)周圍環(huán)境不造成污染,屬于清潔加工工藝和環(huán)保型表面處理技術(shù),微弧氧化中只放出氫氣、氧氣,對(duì)人體無(wú)害。

2、工藝簡(jiǎn)單,特別對(duì)于工業(yè)樣品的預(yù)處理不像陽(yáng)極氧化要求的那樣嚴(yán)格和繁雜,低電壓微弧氧化技術(shù),只要求樣品表面去污去油,不需要去除表面的自然氧化層,也不需要表面打磨。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線








微弧氧化槽液

       微弧氧化主要針對(duì)鋁、鎂、鈦、等閥金屬(閥金屬是指在電解液中起到電解閥門作用的金屬)。微弧氧化處理可在酸性和堿性電解液中進(jìn)行,但由于酸性電解液對(duì)環(huán)境污染性較大現(xiàn)已較少使用。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等,在單一或者它們的復(fù)合電解液中,增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等,以達(dá)到提高膜層生長(zhǎng)速率和致密性等或者功能性膜層的目的。微弧氧化處理應(yīng)根據(jù)基體材料的種類選用合適的電解液體系。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)


微弧氧化電解液組成及工藝條件

      微弧氧化電解液組成:K2SiO3 5~10g/L,PEO技術(shù)微弧氧化,Na2O2 4~6g/L,NaF 0.5~1g/L,CH3COONa 2~3g/L,Na3VO3 1~3g/L;溶液pH為11~13;溫度為20~50℃;陰極材料為不銹鋼板;電解方式為先將電壓迅速上升至300V,微弧氧化技術(shù),并保持5~10s,然后將陽(yáng)極氧化電壓上升至450V,電解5~10min。

       兩步電解法,靠前步:將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽(yáng)極電流氧化5min;第二步:將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽(yáng)極電流氧化15min。陰極材料為:不銹鋼板;溶液溫度為20~度為20~50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線


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