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鋁合金微弧氧化技術(shù)優(yōu)勢(shì)-鋁合金微弧氧化-日照微弧氧化生產(chǎn)線

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發(fā)布時(shí)間:2024-10-19 10:07  

微弧氧化電解液組成及工藝條件

      微弧氧化電解液組成:K2SiO3 5~10g/L,Na2O2 4~6g/L,NaF 0.5~1g/L,CH3COONa 2~3g/L,Na3VO3 1~3g/L;溶液pH為11~13;溫度為20~50℃;陰極材料為不銹鋼板;電解方式為先將電壓迅速上升至300V,并保持5~10s,然后將陽極氧化電壓上升至450V,電解5~10min。

       兩步電解法,靠前步:將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min;第二步:將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。陰極材料為:不銹鋼板;溶液溫度為20~度為20~50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線







微弧氧化技術(shù)

       為提高鋁材料的表面性能,鋁合金微弧氧化技術(shù)優(yōu)勢(shì),常用的方法有電鍍,鋁合金微弧氧化,激光,陽極氧化等,其中微弧氧化技術(shù)是基于陽極氧化發(fā)展起來的一種的表面強(qiáng)化處理技術(shù)。微弧氧化是把工件放入溶液中施加高電壓進(jìn)行氧化。隨著電壓的遞增,逐步進(jìn)入火花放電階段,并通過瞬時(shí)高溫?zé)Y(jié)作用使氧化膜結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,生成陶瓷膜層。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝


      由于微弧氧化是在陽極氧化膜被電ji穿的基礎(chǔ)上進(jìn)行的,所以在探討微弧氧化機(jī)理時(shí)我們要結(jié)合電ji穿理論的研究和發(fā)展,鋁合金微弧氧化價(jià)格,從而闡述微弧氧化基本原理。微弧氧化技術(shù)就是在電ji穿理論的基礎(chǔ)上加以研究和應(yīng)用的新型表面力一技術(shù)。自1932年Betz等觀察到電ji穿的現(xiàn)象以來,鋁合金微弧氧化原理,許多研究者都對(duì)電ji穿產(chǎn)生的原因 過各種各樣的假設(shè)和模型??傮w上看,電ji穿理論經(jīng)歷了離子電流機(jī)理、熱作用機(jī)理、機(jī)械作用機(jī)理以及電子雪崩機(jī)理等不同的發(fā)展階段。了解電ji穿原理,對(duì)于研究微弧氧化機(jī)理,開發(fā)新的表面處理技術(shù)均有著重要的理論意義。



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