微弧氧化技術特點

（1）氧化膜具有陶瓷結構特征。

（2）原位生長。

（3）氧化膜均勻增厚。

（4）無污染：無環(huán)保限制元素加入，基本無廢水排放。

制備工藝簡單。

（5）表面硬度高，微弧氧化技術，顯微硬度在400至1500HV；

（6）耐磨損性能與硬質合金相當；

（7）耐腐蝕性能：鹽霧試驗鋁合金1000－2000小時 ；鎂

合金經封孔后耐鹽霧可達1000小時以上。

（8）耐熱性能：300℃水中淬火35次未見變化，鎂合金微弧氧化技術，1300℃

沖擊5次不脫落、不龜裂。

（9）絕緣性能：膜厚不同，表面電阻達  109－12Ω

微弧氧化采用較高的工作電壓，將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域。采用該技術可在鋁、鎂合金表面生長一層致密的陶瓷膜，htc微弧氧化技術，這層保護膜 與基體結合力強、尺寸變化小，PEO技術微弧氧化，耐磨損、耐腐蝕、耐熱沖擊及絕緣性能得到極大改善，在航空、航天、機械、電子、裝飾等領域有廣泛應用前景。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產線

微弧氧化的起源

微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長陶瓷氧化膜的新技術。美國五十年代在某些兵工廠開始研究陽極火花沉積，前蘇聯(lián)從七十年代中期開始獨立研究微弧氧化且具較高水平，八十年代中、后期以來微弧氧化研究已成為國際研究熱點并開始應用，九十年代初國內開始起步。微弧氧化在航空、航天、機械、電子、裝飾等領域有廣泛應用前景。

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