微觀不平處的氧化層薄，因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位。此外，被拋光表面被施加足夠高的電壓后，電漿拋光加工，它和氣體層、蒸氣、電解液之間會產(chǎn)生很高的電場強(qiáng)度，這種強(qiáng)度也在微觀不平處得到強(qiáng)化。這些使表面微觀凸起部位被削平，電漿拋光廠家，達(dá)到拋光效果。

這是目前的拋光技術(shù)，麻涌電漿拋光，在未來有替代化學(xué)拋光、電解拋光、機(jī)械拋光等污染型拋光技術(shù)的趨勢。等離子拋光后，材料表面微觀形態(tài)變化使產(chǎn)品表面質(zhì)量提升、性能改善：粗糙度降低，均勻性提升，耐磨性和抗腐蝕性更強(qiáng)，拋光難度降低，減少了產(chǎn)品變形，提高了尺寸穩(wěn)定性，是做產(chǎn)品的利器。

等離子拋光由于是靠電離子的摩擦作用，由于離子幾乎沒質(zhì)量。所以摩擦力有限，對表面的摩擦作用一般是去掉1-2個絲。很明顯對沖壓印跡和表面橘皮無法去掉。采用手工拋光和等離子拋光相結(jié)合的辦法。即采用手工開初去掉表面壓印和橘皮。留下很深的麻輪紋路采用很細(xì)的線輪紋路去除。這個時候留下的線輪紋路采用等離子拋光去除。

等離子拋光應(yīng)用領(lǐng)域及拋光效果   3C電子、 運(yùn)動器材、汽車配件、、潔具餐具、手表飾品、模具、航空航天，該技術(shù)主要用于對不銹鋼、銅合金、鈦合金、低碳鋼等金屬零部件的拋光、去毛刺，可以解決航天領(lǐng)域中諸如閥體去毛刺等世界難題。

等離子就是在高溫高壓下，拋光機(jī)水溶液，電子會脫離原子核面跑出來，原子核就形成了一個帶正電的離子，當(dāng)這些離子達(dá)到一定的數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當(dāng)這些等離子要和拋光的物體摩擦?xí)r，頃刻間會使物體達(dá)到表面光亮的效果。

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