微弧氧化

       微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用，微弧氧化加工，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時存在，因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜，鈦合金微弧氧化加工，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。

       微弧氧化產(chǎn)生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉(zhuǎn)變和結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。在微弧氧化的過程下，原來生產(chǎn)的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，微弧氧化加工廠家，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，微弧氧化加工廠，或時間的延長，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應(yīng)的厚度。經(jīng)測試，微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。微弧氧化技術(shù)優(yōu)勢、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化電源

微弧氧化的工藝參數(shù)

       微弧氧化的工藝參數(shù)是指加工件上的外加電壓，一般說終電壓決定微弧氧化膜的厚度，它是不斷升高而達到的，不能一次性加至終電壓。微弧氧化膜的基本特性是與待處理材料及其表面狀態(tài)有關(guān)的，也與槽液類型、電解質(zhì)溶液成、外加電壓、電流密度、槽液溫度和攪拌等因素有關(guān)。其中特別是加在工件上的電壓與電流密度對于氧化膜的性能至關(guān)重要。微弧氧化過程中有一個很大的優(yōu)點就是外加電源突然中斷時可以直接繼續(xù)進行氧化，不需要除去工件上的氧化膜，也不必更換樣品重新處理。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

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