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微弧氧化電源-日照微弧氧化生產(chǎn)線-微弧氧化電源用途

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發(fā)布時間:2024-10-10 01:17  

微弧氧化

采用微弧氧化技術對鋁及其合金材料進行表面強化處理,具有工藝過程簡單,占地面積小,處理能力強,生產(chǎn),適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點。微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和重金屬元素,電解液抗污染能力強和再生重復使用率高,因而對環(huán)境污染小,滿足清潔生產(chǎn)的需要,微弧氧化電源類型,也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高,耐蝕性強(CASS鹽霧試驗>480h),絕緣性好(膜阻>100MΩ),膜層與基底金屬結合力強,微弧氧化電源用途,并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術工藝處理能力強,可通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要;也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色;還可采用不同的電解液對同一工件進行多次微弧氧化處理,以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。








陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么?

由微弧氧化膜層的生長機理可知,陽極氧化是微弧氧化的初級階段。陽極氧化發(fā)生的是化學反應,而微弧氧化除化學反應外,還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應。其膜層由于是在高溫下生成(瞬間高溫度超過3K攝氏度),膜層與基體間為冶金結合,因此與基體結合良好。另外,膜層為氧化物瞬間冷凝形成,具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能,良好的絕緣性等。但歸跟到底,微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于:膜與基體的結合力,膜層內(nèi)部致密性及相結構。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。




微弧氧化處理技術的優(yōu)勢

選用微弧氧化技術對鋁以及合金制品開展表面加強解決,具備加工工藝全過程簡易,微弧氧化電源生產(chǎn)廠家,占地小,解決能力強,微弧氧化電源,生產(chǎn)制造率,適用大工業(yè)化生產(chǎn)等優(yōu)勢。微弧氧化解決后的鋁基表面陶瓷膜層具備強度高,耐蝕性強,介電強度好,膜層與肌底金屬材料結合性強,并具備非常好的耐磨損和耐高溫沖擊性等性能。

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