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鎂合金微弧氧化-日照微弧氧化生產(chǎn)線-鋁 鎂合金微弧氧化設(shè)備

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發(fā)布時(shí)間:2024-10-10 01:17  

影響微弧氧化的因素

(1)微弧氧化對(duì)鋁材要求不高,不管是含銅或是含硅的難以陽(yáng)極氧化鋁合金,鎂合金微弧氧化應(yīng)用,只要閥金屬比例占到40%以上,均可用于微弧氧化,且能得到理想膜層。

(2)表面狀態(tài)一般不需要經(jīng)過(guò)拋光處理,對(duì)于粗糙的表面,經(jīng)過(guò)微弧氧化,可修復(fù)的平整光滑;對(duì)于粗糙度低(即光滑)的表面,則會(huì)增加粗糙度。

工件材質(zhì)及表面狀態(tài)對(duì)微弧氧化會(huì)有一定的影響,鋁 鎂合金微弧氧化設(shè)備,所以一定要引起注意。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)







合金材料及表面狀態(tài)對(duì)微弧氧化的影響

       微弧氧化技術(shù)對(duì)鋁基工件的合金成分要求不高,對(duì)一些普通陽(yáng)極氧化難以處理的鋁合金材料,微弧氧化 鎂合金加工,如含銅、高硅鑄鋁合金的均可進(jìn)行微弧氧化處理。對(duì)工件表面狀態(tài)也要求不高,一般不需進(jìn)行表面拋光處理。對(duì)于粗糙度較高的工件,經(jīng)微弧氧化處理后表面得到修復(fù)變得更均勻平整;而對(duì)于粗糙度較低的工件,經(jīng)微弧氧化后,表面粗糙度有所提高。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源


微弧氧化

       在微弧氧化過(guò)程中,化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時(shí)存在,因此陶瓷層的形成過(guò)程非常復(fù)雜,鎂合金微弧氧化,至今還沒(méi)有一個(gè)合理的模型能全描述陶瓷層的形成。微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽(yáng)極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域,克服了硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的缺陷,極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固,結(jié)構(gòu)致密,韌性高,具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。



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