等離子拋光采用的拋光技術(shù)是一種完全不同于傳統(tǒng)方法的新型拋光技術(shù)，此拋光技術(shù)是根據(jù)電化學(xué)原理與化學(xué)反應(yīng)原理而研發(fā)設(shè)計(jì)的。其拋光技術(shù)不使用對(duì)環(huán)境有污染和損害生產(chǎn)者健康的化學(xué)物品，但它的拋光效果卻能夠達(dá)到傳統(tǒng)方法很難達(dá)到的，企石電漿拋光，拋光速度也是傳統(tǒng)拋光方法望塵莫及的，生產(chǎn)成本遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)拋光成本。

 由于等離子拋光有這些特性存在，所以目前應(yīng)用的非常廣，并且有取代電解拋光的趨勢(shì)。

等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝，僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi)，因此等離子化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。

等離子拋光的優(yōu)勢(shì)。

     拋光技術(shù)是金屬表面處理的關(guān)鍵技術(shù)之一，拋光無論是在傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)還是在電子數(shù)碼產(chǎn)業(yè)中都是不可或缺的生產(chǎn)步驟。拋光是對(duì)工件表面精加工的過程，經(jīng)過拋光工序，工件表面粗糙度降低，不銹鋼電漿拋光，一般說來伴隨著光澤度的提高，電漿拋光廠，工件拋光后其機(jī)械、物理及化學(xué)性能都有不同程度的改善。例如，粗糙度降低光潔度提高，耐腐蝕性提高，電漿拋光加工廠家，缺口敏感性降低，摩擦系數(shù)下降，磨損減少。

 等離子拋光過程簡(jiǎn)析  

1、將待拋光工件浸入加熱后的電解質(zhì)水溶液中，并對(duì)其施加正極性電壓。該電解液無公害且廉價(jià)低濃度，PH值為6.5左右，近乎中性，所施加的電壓為直流電壓，工件可以是不銹鋼、銅、鋅及其合金等導(dǎo)電材料。

2、在適當(dāng)?shù)墓ぷ鳁l件下，工件表面會(huì)出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層。該氣體層會(huì)把被處理表面與電解質(zhì)水溶液隔開，從而導(dǎo)致表面與電解液蒸氣之間產(chǎn)生強(qiáng)烈的等離子體化學(xué)和電化學(xué)反應(yīng)，使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化，同時(shí)又使陰極氧化層受到化學(xué)侵蝕，在氧化速度與侵蝕速度相等時(shí)出現(xiàn)拋光效果，表現(xiàn)為光潔度上升及反射率提高。當(dāng)氧化層薄且又足以抵御侵蝕作用時(shí)，反射率出現(xiàn)值。

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