再在拋光過程中記錄拋光量計算硫酸銨拋光液濃度.前一種方法應(yīng)用起來更為簡便，可用于一般工業(yè)生產(chǎn);后一種方法適用于對拋光效果要求更高的加工.經(jīng)實驗驗證兩種方法均具有可行性.針對形狀復(fù)雜的工件，云浮等離子拋光，從氣層厚度和電場強(qiáng)度兩方面研究工件上的空間位置和形狀對拋光的影響.對于一些形狀特殊的工件的拋光方法進(jìn)行研究. 根據(jù)電解質(zhì)等離子拋光及其工藝的研究成果，設(shè)計電解質(zhì)等離子拋光設(shè)備，并使用該設(shè)備加工多種材質(zhì)的工件，為該技術(shù)的工業(yè)化應(yīng)用提供參考依據(jù).

等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝，僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi)，因此等離子化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。

等離子拋光的優(yōu)勢。

     拋光技術(shù)是金屬表面處理的關(guān)鍵技術(shù)之一，拋光無論是在傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)還是在電子數(shù)碼產(chǎn)業(yè)中都是不可或缺的生產(chǎn)步驟。拋光是對工件表面精加工的過程，等離子拋光公司，經(jīng)過拋光工序，工件表面粗糙度降低，一般說來伴隨著光澤度的提高，工件拋光后其機(jī)械、物理及化學(xué)性能都有不同程度的改善。例如，粗糙度降低光潔度提高，耐腐蝕性提高，等離子拋光加工廠，缺口敏感性降低，環(huán)保等離子拋光，摩擦系數(shù)下降，磨損減少。

等離子要運(yùn)用在拋光上面是需要具備一定的條件才可以做拋光的，首先要產(chǎn)生等離子必須要有電場存在、換句通俗的話來說要有電源存在、還要有被離化的物質(zhì)、在拋光鄰域被離化的物質(zhì)就是我們的拋光鹽，等離子拋光鹽是個關(guān)鍵的介質(zhì)、它也要具備兩個條件，一被離化成離子轟擊產(chǎn)品表面、二離化的酸根離子要能跟產(chǎn)品表面發(fā)生微反應(yīng)，且是正向的作用、至少不能是負(fù)作用，只有這樣才能得到等離子拋光的功效。

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