受到電場力的吸引，接下來氮的陽離子會向飛向陰極即靶材附近，裝飾不銹鋼鍍鈦公司，而電子則會飛向引弧針，但是由于離子的質(zhì)量遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于電子，因此在受到相同電場力的情況下，電子的移動距離會大于陽離子的移動距離，于是當(dāng)電子到達(dá)陽極時，離子將不會到達(dá)陰極靶面，而是在距離靶面較近的位置處富集，形成正離子堆積層，陽離子與陰極靶面的距離很小，可達(dá)微米級。根據(jù)E=U/d，可知此時空間中的電場強(qiáng)度極高，這種極強(qiáng)的電場會把靶材中的電子“扯”出來。


此外，多弧鍍涂層顏色較為穩(wěn)定，尤其是在做 TiN 涂層時，裝飾不銹鋼鍍鈦電話，每一批次均容易得到相同穩(wěn)定的金黃色，河南裝飾不銹鋼鍍鈦，令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的 DC 電源做低溫涂層條件下，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm 時，裝飾不銹鋼鍍鈦怎么收費(fèi)，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。

射頻濺射

采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，濺射時，靶極會產(chǎn)生自偏壓效應(yīng)（即靶極會自動處于負(fù)電位狀態(tài)），使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。

優(yōu)點(diǎn)可以濺射所有材料，包括導(dǎo)體和絕緣體濺射可大規(guī)模生產(chǎn)

磁控濺射

磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運(yùn)行來增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。

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