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感應(yīng)加熱式蒸發(fā)鍍膜
利用高頻電磁場(chǎng)感應(yīng)加熱,使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。
優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大,可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右 蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定,不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象坩堝溫度較低,坩堝材料對(duì)膜導(dǎo)污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價(jià)高、設(shè)備復(fù)雜
在真空中,高能粒子轟擊材料表面,使其原子獲得足夠的能量而逸出表面,真空不銹鋼鍍鈦哪家好,到達(dá)襯底凝結(jié)成膜的技術(shù)。
與真發(fā)鍍膜相比,濺射鍍膜適用于所有(包括高熔點(diǎn))材料,具有附著力強(qiáng)、成分可控、易于規(guī)?;a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。
但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜,因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。
PVD(Physical Vapor Deition),在真空條件下,采用物理方法,使材料源表面氣化成原子、分子或離子,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍?nèi)箢悺?/p>
蒸發(fā)鍍膜
真空條件下,將鍍料加熱蒸發(fā)或升華,材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術(shù)。根據(jù)加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。
采用電阻加熱蒸發(fā)源的蒸發(fā)鍍膜技術(shù),一般用于蒸發(fā)低熔點(diǎn)材料,金屬表面不銹鋼鍍鈦哪家好,如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等;加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。
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