感應(yīng)加熱式蒸發(fā)鍍膜

利用高頻電磁場感應(yīng)加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。

優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右  蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定，不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象坩堝溫度較低，坩堝材料對膜導(dǎo)污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價高、設(shè)備復(fù)雜

在真空中，高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而逸出表面，到達(dá)襯底凝結(jié)成膜的技術(shù)。

與真發(fā)鍍膜相比，濺射鍍膜適用于所有（包括高熔點(diǎn)）材料，具有附著力強(qiáng)、成分可控、易于規(guī)?；a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。

但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜，因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。

濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，處理不銹鋼鍍鈦哪里有，使氣進(jìn)行輝光放電，裝飾不銹鋼鍍鈦哪里有，這時(Ar)原子電離成離子(Ar )，離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面?！R射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，表面不銹鋼鍍鈦哪里有，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。


現(xiàn)有鍍膜工藝，多數(shù)均要求事先對工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗，既復(fù)雜又費(fèi)事。離子鍍的鍍層組織致密、無、無氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復(fù)，宿州不銹鋼鍍鈦哪里有，不致形成金屬瘤。象螺紋一類的零件也能鍍復(fù)，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能


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