溶液溫度濃度對微弧氧化膜層性能的影響

1、微弧氧化溶液溫度低時，氧化膜的生長速度較快，膜致密，性能較佳。但溫度過低時，氧化作用較弱，膜厚和硬度值都較低。

2、微弧氧化溶液溫度過高時，堿性電解液對氧化膜的溶解作用增強，致使膜厚與硬度顯著下降，且溶液易飛濺，膜層也易被局部燒焦或擊穿。所謂以微弧氧化溶液的溫度一定要控制好，這樣才可以提高微弧氧化膜層的性能。

3、溶液酸堿度：酸堿度過大或過小，微弧氧化電源，溶解速度都加快，氧化膜生長速度減慢，所以一般選擇弱堿性溶液。

4、溶液濃度：溶液濃度對氧化膜的成膜速率、表面顏色和粗糙度都有影響。微弧氧化技術、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

微弧氧化電源具有單問直流、單向直流脈沖、正反向直流脈沖的多臺階自動恒流控制特點。脈沖幅值連續(xù)可調(diào)、脈沖占空比可調(diào)、頻率可調(diào)。介通微弧氧化電源主機界面良好、可視性強可自動存儲、記錄微弧氧化電流、電壓、槽液溫度等實時工藝曲線。微弧氧化電源可用于鎂合金、鋁合金、鈦合金等輕金屬的表面氧化處理，微弧氧化電源原理圖，使其具有更好的耐磨性、耐腐蝕性。

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陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？

由微弧氧化膜層的生長機理可知，微弧氧化電源使用說明，陽極氧化是微弧氧化的初級階段。陽極氧化發(fā)生的是化學反應，而微弧氧化除化學反應外，還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結合，因此與基體結合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，高頻微弧氧化電源，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結合力，膜層內(nèi)部致密性及相結構。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。

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