、工作溫度：不同的鍍膜需要不同的溫度，比如鍍金色TiN，溫度580℃。鍍銀灰色TiCN溫度是450℃。

2、工作時(shí)間：由于不同鍍膜需要的溫度不同，夏邑鍍鈦服務(wù)，以致不同的鍍膜需要不同的時(shí)間來(lái)控制；

3、材料本身：產(chǎn)地、厚度、規(guī)格、內(nèi)部構(gòu)成化學(xué)元素、表面初始加工的相似度；

4、真空鍍膜材料：目前真空鍍膜常規(guī)材料大致有：碳化鈦、氮化鈦、碳氮化鈦等，可以滿足市面常規(guī)（普通）的鍍膜需要，比較的鍍膜材料有氮化鈦鋁，氮化鉻膜等，用于加工比較復(fù)雜、的顏色；

5、不同的加工環(huán)境、不同的鍍鈦爐、不同的鍍鈦技工的處理方式都會(huì)對(duì)鍍鈦結(jié)果產(chǎn)生不同程度的影響；

6、由于不銹鋼表面加工工序的復(fù)雜性，金屬表面鍍鈦服務(wù)，每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的，這就直接影響到終成品的表面色澤，這也是目前該行業(yè)技術(shù)上的一個(gè)瓶頸。

受到電場(chǎng)力的吸引，接下來(lái)氮的陽(yáng)離子會(huì)向飛向陰極即靶材附近，而電子則會(huì)飛向引弧針，但是由于離子的質(zhì)量遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于電子，因此在受到相同電場(chǎng)力的情況下，表面鍍鈦服務(wù)，電子的移動(dòng)距離會(huì)大于陽(yáng)離子的移動(dòng)距離，于是當(dāng)電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí)，離子將不會(huì)到達(dá)陰極靶面，而是在距離靶面較近的位置處富集，形成正離子堆積層，陽(yáng)離子與陰極靶面的距離很小，可達(dá)微米級(jí)。根據(jù)E=U/d，可知此時(shí)空間中的電場(chǎng)強(qiáng)度極高，這種極強(qiáng)的電場(chǎng)會(huì)把靶材中的電子“扯”出來(lái)。

感應(yīng)加熱式蒸發(fā)鍍膜

利用高頻電磁場(chǎng)感應(yīng)加熱，真空鍍鈦服務(wù)，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。

優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右  蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定，不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象坩堝溫度較低，坩堝材料對(duì)膜導(dǎo)污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價(jià)高、設(shè)備復(fù)雜

在真空中，高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而逸出表面，到達(dá)襯底凝結(jié)成膜的技術(shù)。

與真發(fā)鍍膜相比，濺射鍍膜適用于所有（包括高熔點(diǎn)）材料，具有附著力強(qiáng)、成分可控、易于規(guī)?；a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。

但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜，因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。

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