等離子體納米拋光是一種新型的金屬表面處理工藝，只與工件表面的分子層和等離子體發(fā)生反應，原子間距一般為0.1-0.3納米處理深度為0.3-4.5納米.拋光材料的表面粗糙度為1MM因此，等離子電漿拋光，等離子納米化學活化工件表面去除表面分子污染層。

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電漿拋光

影響等離子拋光效果的主要因素

等離子拋光是一個多因素的綜合過程。因此，影響等離子拋光工藝的因素較多，而且這些影響因素是相互關聯的，有時是某種因素起主要作用，電漿拋光加工廠家，有時則集中因素共同起重要作用。所以，要使等離子拋光工藝長期保持穩(wěn)定和處于較佳的狀態(tài)，就必須從多方面創(chuàng)造和掌握好各種影響拋光效果的主要因素。

電漿拋光

真空等離子技術

     這些等離子體在密閉的真空中產生。與常壓條件下相比，每個單位體積中的微粒數較少，這樣就增加了粒子自由程長度，并相對減少了碰撞過程。因此，等離子體能量削弱的傾向減弱，不銹鋼電漿拋光，可在空間內更廣泛地傳播。要制造真空腔體，需要使用功能強大的氣泵。真空等離子技術不具備在線聯動功能。

電解質-等離子拋光過程

將被拋光的金屬掛件放在掛具上作為陽極沉入低濃度的中性鹽配置的拋光液中，拋光液及拋光槽與陰極相連。

在工件進入拋光液的過和中，拋光液電解產生的氣體和工件與拋光液接觸的瞬時知路所蒸發(fā)的水蒸氣會形成一個包圍工件的氣層，將工件與拋光液完全隔開。由于微觀凸起的位置形成放電通道，惠州電漿拋光，將這些位置的材料支除，從而實現對工件的拋光。

等離子拋光設備主要用于拋光幾何形狀復雜的不銹鋼制品表面。其機理是在液體施加的電極周圍形成相對穩(wěn)定的等離子體場，通過等離子體場中的離子與游離的中性原子之間的交換實現物體的表面分辨。由于物體的表面形貌，突出部分具有較高的血漿濃度，使其快速剝離，直至達到相對平坦的狀態(tài)。因為等離子場包圍了物體的整個表面，所以物體的所有部分都可以被相應地拋光。

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