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與不同的氣體發(fā)應形成一種薄膜涂層。今天所使用的大多數(shù)PVD方法是電弧和濺射沉積涂層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。Ionbond 陰極電弧PVD涂層技術在20世紀70年代后期由前蘇聯(lián)發(fā)明,如今,鍍鈦加工報價,絕大多數(shù)的刀模具涂層使用電弧沉積技術。
工藝溫度:典型的PVD涂層加工溫度在250℃— 450℃之間,但在有些情況下依據(jù)應用領域和涂層的質(zhì)量,PVD涂層溫度可低于70℃或高于600℃進行涂層。
PVD加工特點
1).PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上,對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應行化學電鍍鉻,商丘鍍鈦加工,然后才適合鍍PVD,但是水鍍后做PVD容易起泡,不良率較高;
2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間;
3).涂層種類和厚度決定工藝時間,一般工藝時間為 3~6 小時;
4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.3μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工;
可見,鍍鈦加工多少錢,多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣,為了盡可能 地發(fā)揮它們各自的性,實現(xiàn)互補,將多弧技術與磁控技術合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底,然后利用磁控濺射法增厚涂層,鍍鈦加工服務,后再利用多弧鍍達到終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。
大約在八十年代中后期,出現(xiàn)了熱陰極電子蒸發(fā)離子鍍、熱陰極弧磁控等離子鍍膜機,應用效果很好,使TiN 涂層刀具很快得到普及性應用。
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