等離子拋光的三個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)是成本更低，銅的等離子拋光，該過程更環(huán)保，并且具有該技術(shù)獨(dú)有的表面下?lián)p傷去除效果。等離子拋光晶圓與CMP晶圓比較而言，一直到二極管和MOSFET器件生成，完整的晶圓電氣性能和良率結(jié)果已經(jīng)與CMP相當(dāng)（圖1）。

等離子拋光劑不使用消耗性有毒漿料，因此避免了相關(guān)的處置問題和高用水量，消除這些工藝要求可以將運(yùn)營(yíng)成本降低多達(dá)85%。此外，該步驟上游的材料要求不需要改變，之后的工藝也看不到等離子拋光晶圓和CMP晶圓之間的差異。

等離子拋光

等離子技術(shù)跟光等離子技術(shù)的區(qū)別

光等離子是用光子的能量把這氧氣分子鏈斷開，形成了一個(gè)單氧，然后再變成臭氧，是這么一個(gè)過程。等離子是這種電場(chǎng)電的能量，把它這個(gè)分子鏈給斷開。

所以兩個(gè)是機(jī)理是：一是光，一是電，來把它斷開。

但是它的效果呢，哪個(gè)好？

從能量來說的話，光的能量它是一個(gè)固定值，電的話的能量是可大可小。你加的電壓高，電子能就更高，你要加的電能低。因此來講它可以比光更弱一點(diǎn)，也可以比光更強(qiáng)一點(diǎn)。

但是因?yàn)殡姴缓每刂?，它就容易產(chǎn)生把氮?dú)庖步o電離了，產(chǎn)生氮氧化物（致癌），這是它的一個(gè)不利方面。但是如果你把電壓降低一點(diǎn)，氮氧化物沒有，但是臭氧也會(huì)少一些，然后電離能也會(huì)降低點(diǎn)。是大概是這么一個(gè)情況，光是比較好控制的。

等離子拋光鏡面效果好嗎

等離子拋光是一種表面處理技術(shù)，等離子電解拋光加工，可以用于改善金屬、塑料等材料的表面質(zhì)量和光潔度。等離子拋光可以去除表面的氧化層、污垢和劃痕，惠州等離子拋光，使表面變得光滑、亮麗。因此，在適當(dāng)?shù)那闆r下，等離子拋光可以實(shí)現(xiàn)鏡面效果。

然而，等離子拋光的效果取決于材料的性質(zhì)和拋光工藝的控制。對(duì)于某些材料，等離子拋光可能會(huì)導(dǎo)致表面粗糙度的增加，從而降低鏡面效果。此外，拋光過程中如果控制不當(dāng)，還可能導(dǎo)致表面的變形、損傷或者殘留物的堆積。因此，在選擇等離子拋光作為鏡面效果的處理方法時(shí)，需要根據(jù)具體情況進(jìn)行評(píng)估和選擇。

總的來說，等離子拋光可以在適當(dāng)?shù)那闆r下實(shí)現(xiàn)鏡面效果，但需要注意拋光工藝的控制和材料的特性。

等離子拋光


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