等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝，僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi)，因此等離子化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。

等離子拋光的優(yōu)勢。

     拋光技術(shù)是金屬表面處理的關(guān)鍵技術(shù)之一，拋光無論是在傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)還是在電子數(shù)碼產(chǎn)業(yè)中都是不可或缺的生產(chǎn)步驟。拋光是對工件表面精加工的過程，經(jīng)過拋光工序，工件表面粗糙度降低，一般說來伴隨著光澤度的提高，江門不銹鋼等離子拋光，工件拋光后其機(jī)械、物理及化學(xué)性能都有不同程度的改善。例如，粗糙度降低光潔度提高，耐腐蝕性提高，缺口敏感性降低，摩擦系數(shù)下降，磨損減少。

什么是等離子拋光？

等離子即物質(zhì)的第四形態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，等離子就是在高溫高壓下，拋光鹽水溶，在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，原子核就形成了一個帶正電的離子，當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r，對工件進(jìn)行無死角拋光，頃刻間會使物體達(dá)到表面光亮的效果。

電解質(zhì)等離子拋光的基本模型，拋光工件作為加工陽極，拋光液和拋光槽作為加工陰極。在拋光過程中保持合適的電壓值（250V-400V），此時拋光工件表面可形成完全隔離拋光液和拋光工件的氣層，氣層被擊穿時放電通道會更多地在工件表面微觀凸起位置形成，從而使凸起位置的材料去除量大于其他位置，實(shí)現(xiàn)拋光。

等離子拋光加工作為一種新的拋光工藝，是不銹鋼拋光的一種發(fā)展趨勢。如果能好的利用等離子拋光將為我們節(jié)省很多時間和成本。

拋光工藝一般從沖壓出完全成型產(chǎn)品開始，不銹鋼等離子拋光加工廠，后續(xù)工序一般有鐳射，電鍍，噴油等。拋光一般采用手工拋光，或者是手工拋光和等離子拋光結(jié)合。

等離子拋光對表面的摩擦作用一般是去掉1~2個絲。對沖壓印跡和表面橘皮無法去掉。采用手工拋光和等離子拋光相結(jié)合的辦法，不銹鋼等離子拋光廠家，即采用手工開初去掉表面壓印和橘皮，留下很深的麻輪紋路采用很細(xì)的線輪紋路去除，這個時候留下的線輪紋路采用等離子拋光去除。

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