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電子束蒸發(fā)鍍膜
利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā),在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。電子束熱源的能量密度可達104-109w/cm2,可達到3000℃以上,可蒸發(fā)高熔點的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。
電子束加熱的蒸鍍源有直型電子和e型電子兩種(也有環(huán)行),電子束自源發(fā)出,用磁場線圈使電子束聚焦和偏轉(zhuǎn),對膜料進行轟擊和加熱。
PVD加工特點
1).PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上,對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)行化學電鍍鉻,然后才適合鍍PVD,但是水鍍后做PVD容易起泡,金屬鍍鈦怎么收費,不良率較高;
2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間;
3).涂層種類和厚度決定工藝時間,一般工藝時間為 3~6 小時;
4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.3μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm,鄭州鍍鈦怎么收費,因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能,鍍鈦怎么收費,并能夠維持工件尺寸基本不變,處理鍍鈦怎么收費,鍍后不須再加工;
PVD(Physical Vapor Deition),在真空條件下,采用物理方法,使材料源表面氣化成原子、分子或離子,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍?nèi)箢悺?/p>
蒸發(fā)鍍膜
真空條件下,將鍍料加熱蒸發(fā)或升華,材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術(shù)。根據(jù)加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發(fā)鍍膜技術(shù)。
采用電阻加熱蒸發(fā)源的蒸發(fā)鍍膜技術(shù),一般用于蒸發(fā)低熔點材料,如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等;加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。
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