負占空比對鈦合金微弧氧化膜層的影響

恒壓模式下，利用自制的多功能微弧氧化設(shè)備在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH電解液體系中制備了鈦合金陶瓷膜，采用掃描電鏡、X射線衍射儀等考察了負占空比(dc)對鈦合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相組成及耐蝕性的影響。結(jié)果表明：隨著dc的增加，膜層厚度減??；膜層表面呈典型的多孔陶瓷結(jié)構(gòu)，隨dc的增大，膜層表面微孔數(shù)量減少，輕金屬微弧氧化電話，孔徑增大且有裂紋產(chǎn)生；膜層相組成主要為Ti、金紅石及銳鈦礦TiO2，在dc=45%時基體衍射峰消失。相對基體而言，輕金屬微弧氧化，膜層的硬度及耐蝕性都具有較大的提高；隨dc增加，膜層硬度增強，耐蝕性有一定程度的減弱。

！！五一期間，經(jīng)精心工藝設(shè)計，圓滿完成了超大鈦合金工件的微弧氧化。該超大鈦合金工件為鈦合金材質(zhì)，長度3.2米   ，直徑1.1米，重量 1.5噸，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，微弧氧化的難度較大，技術(shù)人員犧牲了休息時間，刻苦攻關(guān)，終于實現(xiàn)了小功率電源做超大件微弧氧化的新突破。微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化應(yīng)用、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)優(yōu)勢

微弧氧化膜層生長時，首先在基體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一層陽極氧化膜。當增大反應(yīng)電壓時，膜層厚度會進一步增加，輕金屬微弧氧化優(yōu)勢，厚度會隨之增加。但是當反應(yīng)電壓增加到一定程度時，膜層會由于不能承受該工作電壓發(fā)生放電再擊穿，產(chǎn)生等離子放電。反應(yīng)的高溫將使膜層發(fā)生熔融，基體元素由于處在富氧環(huán)境中，將形成氧化物。同時由于是在電解液中，熔融物將瞬間冷凝，在基體表面生成一層陶瓷。陶瓷膜的生成，將導(dǎo)致工作電壓進一步升高，膜層再次被擊穿，膜層厚度進一步增加。周而復(fù)始，膜層得以生長。

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