離子鍍技術(shù)早由D. M. Mattox于1963年提出并付諸實踐的。其原理是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時，把蒸發(fā)物或其他反應(yīng)物鍍在基片上的工藝。

根據(jù)膜層粒子的獲得方式，離子鍍可分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍，其中蒸發(fā)型離子鍍根據(jù)放電原理不同又可分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。

真空鍍鈦是指在真空的環(huán)境下，采用弧光放電，漯河真空鍍鈦，把陰極鈦靶作為蒸發(fā)源，真空鍍鈦怎么收費，通過鈦靶與陽極機體之間的弧光放電，使鈦靶材蒸發(fā)并形成離子體，產(chǎn)生的離子體高速向產(chǎn)品上運動，在產(chǎn)品表面進行沉積，真空鍍鈦哪家好，形成了鈦膜層。要想鍍出堅固的鈦層，首先要有好的設(shè)備。因為在鍍膜過程中，真空系統(tǒng)必需要工作穩(wěn)定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過程中有雜氣摻入，顏色就會不理想，嚴重的還會脫鈦。

射頻濺射

采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，真空鍍鈦服務(wù)，濺射時，靶極會產(chǎn)生自偏壓效應(yīng)（即靶極會自動處于負電位狀態(tài)），使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。

優(yōu)點可以濺射所有材料，包括導體和絕緣體濺射可大規(guī)模生產(chǎn)

磁控濺射

磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運行來增強電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。

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