超聲掃描顯微鏡 新一代的超聲測試設(shè)備，可在生產(chǎn)線中用手工掃描方法來檢測器件的缺陷等。該設(shè)備可利用不同材料對超聲波聲阻抗不同，共聚焦顯微鏡價格，對聲波的吸收和反射程度不同，來探測半導(dǎo)體、元器件的結(jié)構(gòu)、缺陷、對材料做定性分析。的聲學(xué)顯微成像（ AMI ）的技術(shù)是諸多行業(yè)領(lǐng)域在各類樣品中檢查和尋找瑕疵的重要手段。在檢查材料本身或粘結(jié)層之間必須保持完整的樣品時，共聚焦顯微鏡生產(chǎn)廠家，這項技術(shù)的優(yōu)勢尤為突出。超高頻超聲檢查可以比其他任何方法都更有效地檢測出脫層，裂縫，空洞和孔隙。




EMMI可廣泛應(yīng)用于偵測各種組件缺陷所產(chǎn)生的漏電流，共聚焦顯微鏡供應(yīng)商，包括閘極氧化層缺陷(Gate oxide defects)、靜電放電破壞(ESD Failure)、閂鎖效應(yīng)(Latch Up)、漏電(Leakage)、接面漏電(Junction Leakage) 、順向偏壓(Forward Bias)及在飽和區(qū)域操作的晶體管，溫州共聚焦顯微鏡，可藉由EMMI定位，找熱點(Hot Spot 或找亮點)位置，進(jìn)而得知缺陷原因，幫助后續(xù)進(jìn)一步的失效分析。







微光顯微鏡是一種用于材料科學(xué)領(lǐng)域的分析儀器，于2016年04月16日啟用。前部照明的1.4兆像素增強型近紅外相機; 珀爾貼風(fēng)冷到 -45攝氏度 可捕更廣范圍波長的近紅外光顯微鏡 軟件控制5波段照明。主要功能編輯 語音l 柵氧化層漏電l p-n 結(jié)漏電l 熱電子效應(yīng)l CMOS閂鎖效應(yīng)l EOS/ESD 損傷l 飽和MOS器件l 模擬MOSFETs。




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