濺射技術(shù):

濺射技術(shù)按產(chǎn)生等離子體的方式可分為:

a. 利用直流輝光放電的二極濺射;

b. 利用熱絲弧光放電的三極濺射;

c. 利用射頻放電的射頻濺射;

d. 利用封閉跑道磁場(chǎng)控制輝光放電的磁控濺射.

2 磁控濺射陰極結(jié)構(gòu):

目前工業(yè)用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a)，一般使用的靶材尺寸有兩種規(guī)格: VT機(jī):長(zhǎng)×寬×厚(450.5×120×6)mm; ZCK機(jī): 460×100×6.圓柱形磁控濺射陰極也逐步運(yùn)用到生產(chǎn)當(dāng)中(圖b)，兩者相比，真空不銹鋼鍍鈦電話，平面靶材的利用率只有20~30%，即利用率低.

電子束蒸發(fā)鍍膜

利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā)，在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。電子束熱源的能量密度可達(dá)104-109w/cm2，可達(dá)到3000℃以上，可蒸發(fā)高熔點(diǎn)的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。

電子束加熱的蒸鍍?cè)从兄毙碗娮雍蚭型電子兩種(也有環(huán)行)，處理不銹鋼鍍鈦價(jià)格，電子束自源發(fā)出，不銹鋼鍍鈦公司，用磁場(chǎng)線圈使電子束聚焦和偏轉(zhuǎn)，對(duì)膜料進(jìn)行轟擊和加熱。

、工作溫度：不同的鍍膜需要不同的溫度，比如鍍金色TiN，溫度580℃。鍍銀灰色TiCN溫度是450℃。

2、工作時(shí)間：由于不同鍍膜需要的溫度不同，以致不同的鍍膜需要不同的時(shí)間來(lái)控制；

3、材料本身：產(chǎn)地、厚度、規(guī)格、內(nèi)部構(gòu)成化學(xué)元素、表面初始加工的相似度；

4、真空鍍膜材料：目前真空鍍膜常規(guī)材料大致有：碳化鈦、氮化鈦、碳氮化鈦等，可以滿足市面常規(guī)（普通）的鍍膜需要，比較的鍍膜材料有氮化鈦鋁，阜陽(yáng)不銹鋼鍍鈦，氮化鉻膜等，用于加工比較復(fù)雜、的顏色；

5、不同的加工環(huán)境、不同的鍍鈦爐、不同的鍍鈦技工的處理方式都會(huì)對(duì)鍍鈦結(jié)果產(chǎn)生不同程度的影響；

6、由于不銹鋼表面加工工序的復(fù)雜性，每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的，這就直接影響到終成品的表面色澤，這也是目前該行業(yè)技術(shù)上的一個(gè)瓶頸。

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