氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展三

（1）電子行業(yè)

微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類(lèi)傳感器、心臟起博器。

（2）真空行業(yè)，儀器、儀表行業(yè)

管道、接頭、閥門(mén)、波紋管、各種真空泵、各類(lèi)排氣機(jī)組、電鏡、質(zhì)譜儀、電子束離子速暴光機(jī)、激光軸分離器、高能加1速器、加1速器、輻照加1速器、鍍膜機(jī)、薄膜真空計(jì)。

（3）核工業(yè)

鈾分離裝置、存儲(chǔ)裝置、核發(fā)電裝置。

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氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)

檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度，正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測(cè)時(shí)，在漏點(diǎn)處噴射氦氣5～10s后，檢漏儀就發(fā)生響應(yīng)，對(duì)于如此龐大的真空系統(tǒng)，其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。

檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍，該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間，即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間，當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。耐壓要求：對(duì)產(chǎn)品加壓到實(shí)驗(yàn)壓力，保壓一段時(shí)間，降到常壓，經(jīng)檢查無(wú)泄漏和異常變形。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn)，兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒(méi)有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。

清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同，但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。熱管技術(shù)目前廣泛應(yīng)用于計(jì)算機(jī)、各類(lèi)電器等設(shè)備散熱，常見(jiàn)的形狀有圓管狀，板塊狀(VC單體)等。筆者測(cè)算，在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須1分鐘；在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須2分鐘；在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間在3分鐘左右。

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氦質(zhì)譜檢漏儀測(cè)量數(shù)據(jù)處理

漏率的溫度修正

標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率易受溫度變化影響，溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響一般為3%/℃ ，所以如果實(shí)際環(huán)境溫度和標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中溫度不一致，需要將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中漏率和標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值修正至同一環(huán)境溫度下來(lái)計(jì)算，并在測(cè)試結(jié)果中加以說(shuō)明，修正方法如下:

方法一: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中的漏率修正至實(shí)際環(huán)境溫度下，用標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中的漏率加上或減去溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計(jì)算值；

方法二: 將標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值修正至標(biāo)準(zhǔn)漏孔證書(shū)中環(huán)境溫度下，用標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值加上或減去溫度對(duì)標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的影響系數(shù)計(jì)算值。